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《磁控溅射法低温制备ITO透明导电薄膜工艺研究》
一、引言
随着现代电子技术的飞速发展，透明导电薄膜在太阳能电池、触摸屏、液晶显示等领域得到了广泛应用。ITO（氧化铟锡）因其高导电性、高可见光透过率等优点，成为透明导电薄膜的首选材料。磁控溅射法作为一种有效的ITO薄膜制备技术，具有制备速度快、工艺稳定等优点。本文将重点研究磁控溅射法在低温条件下制备ITO透明导电薄膜的工艺过程。
二、磁控溅射法概述
磁控溅射法是一种物理气相沉积技术，利用高能粒子轰击靶材，使靶材中的原子或分子溅射出来并沉积在基底上形成薄膜。该方法具有制备速度快、薄膜附着性好、成分可控等优点。在ITO透明导电薄膜的制备中，磁控溅射
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