磁控溅射法制备MgB2超导薄膜的研究现状.doc

磁控溅射法制备ZnO薄膜的研究..doc 磁控溅射法制备ZnO薄膜的研究何五九佳木斯大学材料科学与工程学院黑龙江省佳木斯市 154007 摘要：采用直流反应磁控溅射的方法，通过改变溅射功率、改变工作压强、改变衬底温度以及退火处理等方法，在玻璃衬底上制备ZnO薄膜，衬底上预先渡有透明的ITO导电薄膜，因此制备的样品可以直接作为阳极荧光屏用于场发射平板显示器。通过X射线衍射法、扫描电镜及原子力显微镜对样品的结构、形貌特性进行了测试，利用场发射、荧光光谱仪对样品的阴极射线发光特性和光致发光进行了测试和分析。研究了ZnO薄膜的结构状况、成分、点缺陷浓度等因素与其发光特性之间的关系，找到制备较好薄膜的实验条件，实验表明，在溅射功率为15

2017-01-11 约2.99万字 36页立即下载

磁控溅射法制备PZT薄膜研究的中期报告.docx 磁控溅射法制备PZT薄膜研究的中期报告通过磁控溅射技术制备PZT薄膜具有良好的可控性和重复性，在微电子学、声波器件、传感器等领域具有广泛的应用。本篇报告主要介绍了利用磁控溅射技术制备PZT薄膜的方法以及进行的实验结果。实验方法： 1.制备基片：采用p-Si（100）基片，通过高压氧化制备氧化硅薄膜作为衬底。 2.制备PZT薄膜：采用磁控溅射技术，使用PZT陶瓷为靶材，制备厚度为350纳米的PZT薄膜。 3.表征：使用原子力显微镜（AFM）对薄膜表面形貌进行表征；使用X射线衍射仪（XRD）对薄膜结构进行分析；使用Hall效应测试仪对PZT薄膜的导电性进行测量。实验结果： 1.通过调整溅射时

2023-09-16 约小于1千字 1页立即下载

2025-03-21 约3.12万字 44页立即下载

射频磁控溅射法制备PZT薄膜工艺及研究-课件.ppt * * * * * * * * * * 射频磁控溅射法制备PZT薄膜工艺及研究射频磁控溅射法制备PZT薄膜对制备的PZT薄膜能谱分析测PZT薄膜的厚度(Si基底) 对制备的PZT薄膜进行退火处理对退火后的样品ESEM表征拉曼分析实验材料及设备：载玻片（1cm×1cm），硅片（ 0.5cm×0.5cm ） PZT靶材：国材科技（China Material Technolpgy）镀膜机：MSP/ED-300c型磁控溅射/热蒸发镀膜机（北京创世威纳科技有限公司）一、射频磁控溅射法制备PZT薄膜 Purity:Pb(Zr0.52Ti0.48)O3, 实验工艺参数：溅射系统：MSP

2016-12-10 约4.6千字 24页立即下载

磁控溅射法制备Cu2O半导体薄膜的研究.docx PAGE12 磁控溅射法制备Cu2O半导体薄膜的研究 绪论人类社会发展的过程中能源起着至关重要的作用，能源推动了整个社会文明的发展，也为全世界经济的快速发展提供了强大的驱动力。然而随着一次化石能源煤、石油、天然气的大幅度消耗，导致社会环境能源匮乏且不可在生，另外一方面随着化石能源的消耗释放出大量的有害气体，例如二氧化碳含量升高导致全球气温上升，使两极冰川融化，人类的生存发展受到了严重威胁，因此新材料的研发和新技术的应用是21世纪主要研究课题之一。地球上的一切能量均来自于太阳，太阳能资源丰富，不受地域和时间的限制，高效清洁，且取之不尽用之不竭，若能够充分开发和使用太阳能将会解决数百年来

2024-11-21 约1.02万字 12页立即下载

钨基合金靶材制备与磁控溅射薄膜研究.pptx 钨基合金靶材制备与磁控溅射薄膜;目录;钨基合金靶材制备工艺;制备方法概述;关键工艺参数;材料性能优化;制备过程中的挑战;制备技术的创新点;磁控溅射薄膜技术;溅射技术原理;薄膜沉积过程;薄膜结构与性能;溅射设备与操作;技术应用领域;靶材与薄膜特性分析;靶材的物理特性;薄膜的化学稳定性;表面形貌与微观结构;机械性能与耐久性;研究进展总结;最新研究成果;研究方法的演进;研究成果的应用实例;未来发展趋势;技术创新方向;行业应用前景;潜在市场机遇;参考资料(一);内容摘要;内容摘要;含钨基合金靶材制备方法;含钨基合金靶材制备方法;磁控溅射薄膜技术;磁控溅射薄膜技术;结论;结论;参考资料(二);摘要;摘要

2025-04-27 约小于1千字 72页立即下载

【2017年整理】磁控溅射法制备ZnO薄膜的研究.doc 磁控溅射法制备ZnO薄膜的研究何五九佳木斯大学材料科学与工程学院黑龙江省佳木斯市 154007 摘要：采用直流反应磁控溅射的方法，通过改变溅射功率、改变工作压强、改变衬底温度以及退火处理等方法，在玻璃衬底上制备ZnO薄膜，衬底上预先渡有透明的ITO导电薄膜，因此制备的样品可以直接作为阳极荧光屏用于场发射平板显示器。通过X射线衍射法、扫描电镜及原子力显微镜对样品的结构、形貌特性进行了测试，利用场发射、荧光光谱仪对样品的阴极射线发光特性和光致发光进行了测试和分析。研究了ZnO薄膜的结构状况、成分、点缺陷浓度等因素与其发光特性之间的关系，找到制备较好薄膜的实验条件，实验表明，在溅射功率为15

2017-06-07 约2.99万字 36页立即下载

多步磁控溅射法制备ZnO薄膜.pdf 第3 2 卷第4 期压　电　与　声　光 Vol . 32 No . 4 2 0 10 年8 月 PIEZO EL EC TR ICS A COU STOO P TICS Aug . 20 10 　　文章编号 (20 10) 04063 103 多步磁控溅射法制备 ZnO 薄膜

2017-05-24 约1.64万字 3页立即下载

《磁控溅射法制备ZnO薄膜》.ppt 引言 1842年格洛夫（Grove）在实验室中发现了阴极溅射现象。迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认同长期处于模糊不清状态。1970年后出现了磁控溅射技术。最近15年来，进一步发展了一系列新的溅射技术，使得磁控溅射技术从实验室应用技术真正地进入工业化大量生产的应用领域。 ZnO是一种半导体发光材料，由于它的禁带宽度较大（3.37ev）,决定了它的发光特性：发光的峰值波长和光谱能量分布都在紫外区。在紫外激光器和发光二极管，短波光通讯，光记录等方面有着重要的应用前景，成为近年来材料学和光学中很热门的研究方向。真空溅射原理及方法原理：真空镀膜是借助高

2018-03-31 约2.91千字 20页立即下载

磁控溅射法制备薄膜小论文.doc 乐山师范学院薄膜物理与技术（小论文）题目：磁控溅射法制备薄膜 学院：物理与电子工程学院专业：材料科学与基础姓名：XXX 学号：XXXX 指导老师：XXX 2013年 11月 20日 磁控溅射法制备薄膜 摘要：磁控溅射是利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

2017-03-24 约小于1千字 4页立即下载

磁控溅射法ZnO薄膜及ZnO-TiO2复合薄膜的制备研究的开题报告.docx 磁控溅射法ZnO薄膜及ZnO-TiO2复合薄膜的制备研究的开题报告【摘要】本文主要针对磁控溅射法制备ZnO薄膜及ZnO-TiO2复合薄膜进行研究。首先介绍了ZnO和TiO2材料的基本属性及其应用前景；其次，阐述了磁控溅射法的原理及其优点；再次，描述了制备ZnO薄膜及ZnO-TiO2复合薄膜的具体步骤；最后，分析了该方法的制备效果及其在光电领域的应用前景。该研究有望为深入探究ZnO及ZnO-TiO2复合材料的性质和应用提供理论和实验基础。【关键词】磁控溅射法；ZnO薄膜；ZnO-TiO2复合薄膜；光电应用【引言】 ZnO和TiO2都是重要的半导体材料，具有较好的光电性能，在光电领域有广泛

2024-01-24 约小于1千字 2页立即下载

薄膜技术_磁控溅射.ppt 3，CD-过渡区然后发生“雪崩点火”。离子轰击阴极，释放出二次电子，二次电子与中性气体分子碰撞．产生更多的离子，这些离子再轰击阴极，又产生出新的更多的二次电子。一旦产生了足够多的离子和电子后，放电达到自持，气体开始起辉，两极间电流剧增，电压迅速下降，放电呈现负阻持性。这个CD区域叫做过渡区。在D点以后，电流与电压无关，即增大电源功率时，电压维持不变，而电流平稳增加，此时两极板间出现辉光。在这一区域内若增加电源电压或改变电阻来增大电流，两极板间的电压几乎维持不变。从D到E之间区域叫做“正常辉光放电区”。在正常辉光放电时，放电自动调整阴极轰击面积。最初，轰击是不均匀的，轰击集中在靠近阴极边

2017-11-28 约9.77千字 63页立即下载

ITO透明导电薄膜的磁控溅射法制备工艺 .pdf JIANGSUUNIVERSITY 课程设计论文 ITO透明导电薄膜的磁控溅射法制备工艺学院名称:材料学院专业班级:无机光电0902 学生姓名:张亚平指导教师姓名:李保家指导教师职称： 2012年6月 ITO透明导电薄膜的磁控溅射法制备工艺摘要:铟锡氧化物(简称ITO)是InO掺Sn的半导体材料,其薄膜由于具有优良 23 的导电性和光学性能,引起了人们的广泛关注，随着薄膜晶体管(TFT)，液晶显示(LCD)，等离子显示(PCD)等高新技术的不断发展，现今工业上以制备均匀的大面积ITO薄膜为热点。本文介绍了透明导电薄膜的定义及其导电机理，并就其中一种应用十分广泛的材料ITO进行了

2024-11-21 约2.06万字 20页立即下载

磁控溅射法制备涂层导体缓冲层薄膜的开题报告.docx 磁控溅射法制备涂层导体缓冲层薄膜的开题报告本文主要介绍磁控溅射法制备涂层导体缓冲层薄膜的研究背景、目的和研究计划。一、研究背景随着信息技术的不断发展，新一代电子器件对导体材料的要求也在不断提高。而一些常见的导体材料如铜、铝等在高频条件下存在一定的损耗，且随着工作频率的不断提高，其损耗会越来越大，影响器件的性能和稳定性。为了解决这一问题，涂层导体材料开始被广泛应用，而涂层导体缓冲层薄膜也成为了研究热点。目前已有多种涂层导体缓冲层材料用于制备，如氮化铜、氧化锌、氮化硅等。而磁控溅射技术是制备这些材料薄膜的一种有效方法，具有工艺参数易控制、薄膜性能优良等优点。因此本文拟探讨磁控溅射法制备涂

2023-12-02 约小于1千字 2页立即下载

磁控溅射法制备碳_镍复合薄膜及其在电磁屏蔽中的应用.pdf 目录摘要I AbstractIII 第一章绪论1 1.1引言1 1.2电磁屏蔽概述1 1.2.1电磁屏蔽原理1 1.2.2电磁屏蔽材料分类5 1.3国内外研究现状7 1.4研究内容11 第二章材料和方法12 2.1磁控溅射设备和材料12

2025-02-17 约10.71万字 62页立即下载