磁控溅射法制备碳_镍复合薄膜及其在电磁屏蔽中的应用.pdf

利用磁控溅射法制备电磁屏蔽陶瓷板技术.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112921268 A (43)申请公布日 2021.06.08 (21)申请号 202110089120.3 (22)申请日 2021.01.22 (71)申请人山东

2023-06-06 约8.44千字 6页立即下载

2025-03-21 约3.12万字 44页立即下载

多步磁控溅射法制备ZnO薄膜.pdf 第3 2 卷第4 期压　电　与　声　光 Vol . 32 No . 4 2 0 10 年8 月 PIEZO EL EC TR ICS A COU STOO P TICS Aug . 20 10 　　文章编号 (20 10) 04063 103 多步磁控溅射法制备 ZnO 薄膜

2017-05-24 约1.64万字 3页立即下载

《磁控溅射法制备ZnO薄膜》.ppt 引言 1842年格洛夫（Grove）在实验室中发现了阴极溅射现象。迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认同长期处于模糊不清状态。1970年后出现了磁控溅射技术。最近15年来，进一步发展了一系列新的溅射技术，使得磁控溅射技术从实验室应用技术真正地进入工业化大量生产的应用领域。 ZnO是一种半导体发光材料，由于它的禁带宽度较大（3.37ev）,决定了它的发光特性：发光的峰值波长和光谱能量分布都在紫外区。在紫外激光器和发光二极管，短波光通讯，光记录等方面有着重要的应用前景，成为近年来材料学和光学中很热门的研究方向。真空溅射原理及方法原理：真空镀膜是借助高

2018-03-31 约2.91千字 20页立即下载

磁控溅射法制备薄膜小论文.doc 乐山师范学院薄膜物理与技术（小论文）题目：磁控溅射法制备薄膜 学院：物理与电子工程学院专业：材料科学与基础姓名：XXX 学号：XXXX 指导老师：XXX 2013年 11月 20日 磁控溅射法制备薄膜 摘要：磁控溅射是利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

2017-03-24 约小于1千字 4页立即下载

磁控溅射法制备ZnO薄膜的研究..doc 磁控溅射法制备ZnO薄膜的研究何五九佳木斯大学材料科学与工程学院黑龙江省佳木斯市 154007 摘要：采用直流反应磁控溅射的方法，通过改变溅射功率、改变工作压强、改变衬底温度以及退火处理等方法，在玻璃衬底上制备ZnO薄膜，衬底上预先渡有透明的ITO导电薄膜，因此制备的样品可以直接作为阳极荧光屏用于场发射平板显示器。通过X射线衍射法、扫描电镜及原子力显微镜对样品的结构、形貌特性进行了测试，利用场发射、荧光光谱仪对样品的阴极射线发光特性和光致发光进行了测试和分析。研究了ZnO薄膜的结构状况、成分、点缺陷浓度等因素与其发光特性之间的关系，找到制备较好薄膜的实验条件，实验表明，在溅射功率为15

2017-01-11 约2.99万字 36页立即下载

磁控溅射法ZnO薄膜及ZnO-TiO2复合薄膜的制备研究的开题报告.docx 磁控溅射法ZnO薄膜及ZnO-TiO2复合薄膜的制备研究的开题报告【摘要】本文主要针对磁控溅射法制备ZnO薄膜及ZnO-TiO2复合薄膜进行研究。首先介绍了ZnO和TiO2材料的基本属性及其应用前景；其次，阐述了磁控溅射法的原理及其优点；再次，描述了制备ZnO薄膜及ZnO-TiO2复合薄膜的具体步骤；最后，分析了该方法的制备效果及其在光电领域的应用前景。该研究有望为深入探究ZnO及ZnO-TiO2复合材料的性质和应用提供理论和实验基础。【关键词】磁控溅射法；ZnO薄膜；ZnO-TiO2复合薄膜；光电应用【引言】 ZnO和TiO2都是重要的半导体材料，具有较好的光电性能，在光电领域有广泛

2024-01-24 约小于1千字 2页立即下载

一种以磁控溅射Cu薄膜为缓冲层的二维hBN薄膜及其制备方法.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112962082 A (43)申请公布日 2021.06.15 (21)申请号 202110273353.9 C23C 14/58 (2006.01)

2023-06-10 约8.37千字 9页立即下载

【精选】磁控溅射技术及其应用.ppt 磁控溅射技术及其应用 演讲：*** 2015年10月21日目录 1 2 3 4 磁控溅射镀膜技术简介 磁控溅射镀膜技术原理 磁控溅射镀膜技术发展 磁控溅射镀膜技术应用一、磁控溅射镀膜技术简介 1842年格洛夫（Grove）在研究电子管阴极腐蚀问题时，发现阴极材料迁移到真空管壁上来了，进而发现了阴极溅射现象。直到1877年才真正应用于研究的溅射设备上。迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认同长期处于模糊不清状态。到了20世纪中期，阴极溅射技术发展也相当缓慢，只是在化学活性极强的材料、贵金属材料、介质材料和难熔金属材料的薄膜制备工艺中，采用溅射技术。 1、阴

2017-12-14 约3.34千字 24页立即下载

磁控溅射技术及其应用课件.ppt 磁控溅射技术及其应用 演讲：*** 2015年10月21日目录 1 2 3 4 磁控溅射镀膜技术简介 磁控溅射镀膜技术原理 磁控溅射镀膜技术发展 磁控溅射镀膜技术应用一、磁控溅射镀膜技术简介 1842年格洛夫（Grove）在研究电子管阴极腐蚀问题时，发现阴极材料迁移到真空管壁上来了，进而发现了阴极溅射现象。直到1877年才真正应用于研究的溅射设备上。迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认同长期处于模糊不清状态。到了20世纪中期，阴极溅射技术发展也相当缓慢，只是在化学活性极强的材料、贵金属材料、介质材料和难熔金属材料的薄膜制备工艺中，采用溅射技术。 1、阴

2018-06-14 约3.34千字 24页立即下载

(K,Na)NbO3无铅压电薄膜的磁控溅射法制备及其性能研究的开题报告.docx (K,Na)NbO3无铅压电薄膜的磁控溅射法制备及其性能研究的开题报告一、研究背景压电材料是具有压电效应的材料，被广泛应用于传感器、马达、振荡器等领域。其中，钾钠铌酸钾（KNN）是一种具有很高压电系数和介电常数的无铅压电材料，在电子工业和通信领域有着广泛的应用前景。由于传统的KNN薄膜制备方法存在一些问题，如制备难度大、成本高、晶体不稳定等，因此寻找一种新的制备方法对于KNN薄膜的研究与应用具有重要意义。 磁控溅射（Magnetronsputtering）作为一种非常有效的薄膜制备技术，具有制备纯度高、膜质优良、可控性强等优点。近年来，磁控溅射法在无铅压电薄膜的制备中得到广泛应用，但尚需对

2024-04-10 约1.3千字 3页立即下载

能量过滤磁控溅射技术制备ITO薄膜及其性能研究的中期报告.docx 能量过滤磁控溅射技术制备ITO薄膜及其性能研究的中期报告本中期报告主要介绍了使用能量过滤磁控溅射技术制备ITO薄膜及其性能研究的进展情况。首先，我们选用了以铟锡（90/10）合金为靶材的能量过滤磁控溅射系统进行ITO薄膜制备。通过调节控制参数，如溅射功率、氧分压等，成功制备出了厚度约为150nm的ITO薄膜。其次，我们对制备的ITO薄膜进行了结构和性能测试。X射线衍射测试表明，ITO薄膜具有明显的(222)择优取向，且结晶度良好。光学测试结果表明，ITO薄膜在可见光范围内的透过率高达93%，且具有较低的表面反射率。电学测试结果显示，ITO薄膜的电阻率为2.5×10-4Ω·cm，载流子浓度

2023-09-03 约小于1千字 1页立即下载

《射频磁控溅射法制备掺钛氧化锌透明导电薄膜及其性能研究》.docx 《射频磁控溅射法制备掺钛氧化锌透明导电薄膜及其性能研究》一、引言随着现代电子工业的快速发展，透明导电薄膜在光电器件、触摸屏、太阳能电池等领域的应用越来越广泛。掺钛氧化锌（Titanium-dopedZincOxide，简称TZO）作为一种重要的透明导电材料，具有优异的电学、光学和机械性能，其制备工艺的研究具有重要意义。本文将探讨射频磁控溅射法制备掺钛氧化锌（TZO）透明导电薄膜的工艺及其性能研究。二、射频磁控溅射法原理及设备射频磁控溅射法是一种常用的薄膜制备技术，其原理是利用射频电场在磁场的作用下，将靶材中的原子或分子溅射出来，并在基底上沉积形成薄膜。该技术具有成膜均匀、致密、附着

2024-12-03 约8.52千字 17页立即下载

磁控溅射法制备MoS2薄膜负极及其电化学性能研究.docx 磁控溅射法制备MoS2薄膜负极及其电化学性能研究一、引言随着科技的发展，锂离子电池在能源储存和转换领域的应用越来越广泛。其中，负极材料是锂离子电池的重要组成部分，其性能直接决定了电池的电化学性能。近年来，MoS2因其独特的物理和化学性质，被广泛关注并应用于锂离子电池的负极材料。本文采用磁控溅射法制备MoS2薄膜负极，并对其电化学性能进行了深入研究。二、磁控溅射法制备MoS2薄膜负极 1.材料选择与设备准备我们选择了高纯度的Mo和S靶材，通过磁控溅射法将Mo和S的原子或离子溅射到基底上，经过一定时间的反应和冷却后，得到MoS2薄膜负极。 2.制备过程 (1)将基底（如铜、铝等）清洗干净并

2025-02-12 约3.94千字 8页立即下载

磁控溅射法制备掺锌tio2薄膜及其亲水性能影响研究.docx PAGE4 磁控溅射法制备掺锌TiO2薄膜及其亲水性能影响研究摘要：本实验采用磁控溅射法制备掺锌TiO2薄膜及其对亲水性性能的研究，通过控制氧氩流量比，镀膜时长，锌掺杂量，退火温度等工艺参数制备薄膜，并利用紫外-可见光分光光度计、X射线衍射仪、亲水性测试仪等仪器对薄膜性能检测，找出制备锌掺杂量、不同退火温度对亲水性的最优参数。利用好TiO2薄膜具备亲水性的特性，我们在未来可以应用到生产、生活的方方面面，所以研究其亲水性很有必要。关键词：磁控溅射法；TiO2薄膜；锌掺杂；退火温度；亲水性能第1章文献综述 1.1前言 1.1.1研究背景在二十世纪七十年代

2024-09-19 约1.81万字 23页立即下载