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《射频磁控溅射法制备掺钛氧化锌透明导电薄膜及其性能研究》
一、引言
随着现代电子工业的快速发展，透明导电薄膜在光电器件、触摸屏、太阳能电池等领域的应用越来越广泛。掺钛氧化锌（Titanium-dopedZincOxide，简称TZO）作为一种重要的透明导电材料，具有优异的电学、光学和机械性能，其制备工艺的研究具有重要意义。本文将探讨射频磁控溅射法制备掺钛氧化锌（TZO）透明导电薄膜的工艺及其性能研究。
二、射频磁控溅射法原理及设备
射频磁控溅射法是一种常用的薄膜制备技术，其原理是利用射频电场在磁场的作用下，将靶材中的原子或分子溅射出来，并在基底上沉积形成薄膜。该技术具有成膜均匀、致密、附着
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