磁控溅射法制备薄膜小论文.doc
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乐山师范学院
薄膜物理与技术(小论文)
题目:磁控溅射法制备薄膜
学 院: 物理与电子工程学院
专 业:材料科学与基础
姓 名:XXX
学 号:XXXX
指 导 老 师:XXX
2013年 11月 20日
磁控溅射法制备薄膜
摘 要:磁控溅射是利用磁场与电子交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
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