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磁控溅射法制备薄膜小论文.doc

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乐山师范学院 薄膜物理与技术(小论文) 题目:磁控溅射法制备薄膜 学 院: 物理与电子工程学院 专 业:材料科学与基础 姓 名:XXX 学 号:XXXX 指 导 老 师:XXX 2013年 11月 20日 磁控溅射法制备薄膜 摘 要:磁控溅射是利用磁场与电子交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
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