文档详情

一种晶硅片碱抛光装置及抛光工艺.pdf

发布：2023-06-03约1.3万字共10页下载文档

文本预览下载声明

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112792711 B (45)授权公告日 2022.05.17 (21)申请号 202011638639.4 B24B 41/06 (2012.01)

显示全部

相似文档

一种硅片边缘抛光装置以及方法.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113400176 A (43)申请公布日 2021.09.17 (21)申请号 202110688126.2 B24B 41/04 (2006.01)
2023-06-18 约9.69千字 10页立即下载
一种便携式硅片抛光装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213004535 U (45)授权公告日 2021.04.20 (21)申请号 202021091823.7 (22)申请日 2020.06.12 (73)专利权人南京蔚蓝新材料科技有限公司
2023-02-26 约8.54千字 9页立即下载
一种空心胶囊及抛光工艺及抛光装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113352225 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 202110680365.3 B03C 7/02 (2006.01)
2023-06-18 约1.27万字 16页立即下载
一种展具生产用抛光加工装置及其抛光工艺.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113334224 A (43)申请公布日 2021.09.03 (21)申请号 202110515404.4 (22)申请日 2021.05.12 (71)申请人宿州
2023-06-18 约1.14万字 12页立即下载
硅片腐蚀抛光工艺化学原理.pdf 在材料硅的表面清洁处理，硅片机械加工后表面损伤层的去除、直接键合硅片的减薄、硅中的化学腐蚀等方面要用到硅的化学腐蚀过程。下面讨论硅片腐蚀工艺的化学原理和抛光工艺的化学原理。一、硅片腐蚀工艺的化学原理硅表面的化学腐蚀一般采用湿法腐蚀，硅表面腐蚀形成随机分布的微小原电池，腐蚀电流较大，一般超过100A/cm2，但是出于对腐蚀液高纯度和减少可能金属离子污染的要求，目前主要使用氢氟酸（HF）,硝酸(HNO3)混合的酸性腐蚀液，以及氢氧化钾(KOH)或氢氧化钠（NaOH）等碱性腐蚀液。现在主要用的是HNO3-HF腐蚀液和NaOH腐蚀液。下面分别介绍这两种腐蚀液的腐蚀化学原理和基本规律。
2025-04-24 约2.55千字 2页立即下载
一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213106312 U (45)授权公告日 2021.05.04 (21)申请号 202021756996.6 (22)申请日 2020.08.20 (73)专利权人浙江水利水电学院地
2023-03-02 约1.7万字 15页立即下载
一种硅片的收放料装置.pdf (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号CN221041077U (45)授权公告日2024.05.28 (21)申请号202420093838.9 (22)申请日2024.01.15 (73)专利权人深圳市圭华智能科技有限公司地址
2024-05-28 约8.63千字 11页立即下载
一种硅片打包装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112918806 A (43)申请公布日 2021.06.08 (21)申请号 202110121136.8 (22)申请日 2021.01.28 (71)申请人西安奕斯伟硅片技术有限公司
2023-06-05 约1.13万字 10页立即下载
一种硅片承载装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213401125 U (45)授权公告日 2021.06.08 (21)申请号 202022812384.0 (22)申请日 2020.11.27 (73)专利权人宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙
2023-03-05 约9.58千字 9页立即下载
一种用于硅片抛光的横向反应槽.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213150722 U (45)授权公告日 2021.05.07 (21)申请号 202022035158.6 (22)申请日 2020.09.16 (73)专利权人湖州飞鹿新能源科技有限公司
2023-03-02 约5.65千字 6页立即下载
一种LED分选机硅片台放置硅片的装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210187757 U (45)授权公告日 2020.03.27 (21)申请号 20192
2023-08-19 约6.78千字 9页立即下载
一种硅片处理方法和硅片处理装置.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114457410 A (43)申请公布日 2022.05.10 (21)申请号 202111677988.1 (22)申请日 2021.12.31 (71)申请人隆基绿能科技股份有限公司地址 7
2023-05-08 约2.14万字 19页立即下载
一种大尺寸硅片研磨工艺.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113001392 A (43)申请公布日 2021.06.22 (21)申请号 202110024202.X (51)Int.Cl.
2023-06-10 约7.19千字 5页立即下载
一种用于树脂工艺品的打磨抛光装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213136303 U (45)授权公告日 2021.05.07 (21)申请号 202021959178.6 (22)申请日 2020.09.09 (73)专利权人泉州市丰泽黎发工艺有限公司
2023-03-02 约6.39千字 7页立即下载
一种树脂工艺品抛光打磨装置.pdf (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218534041 U (45)授权公告日 2023.02.28 (21)申请号 202222516393.4 B24B 47/22 (2006.01) (22)申请日 2022.09.
2023-02-28 约6.07千字 8页立即下载