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使用缓冲层作为用于对耦合电介质氧化物层的化学机械抛光的停止件的集成电路制造过程.pdf

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(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113013088 A (43)申请公布日 2021.06.22 (21)申请号 202011507505.9 H01L 21/306 (2006.01) (22)申请日

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