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用于化学机械抛光垫的配制品及用其制成的CMP垫.pdf

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114800255 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210057233.X B24B 37/26 (2012.01)

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