硅抛光片表面平整度测试方法-北弘传媒.pdf
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本测试方法通过在一定的光照下，观察碳化硅单晶抛光片的表面，以表征碳化硅单晶抛光片表面质量。
2 方法原理
碳化硅抛光片表面质量缺陷，在一定光照条件下可产生光的漫反射，且能目测观察，可采用5～10倍放大镜目测观测碳化硅单晶抛光片表面缺陷。
3 测试设备
3.1 高强度汇聚光源，如钨丝灯。光源条件参照标准 GB/T 6624。
3.2 大面积漫射光源，如可调节光强度的荧光灯或乳白灯。
3.3 净化台：净化级别优于4级。
3.4 真空吸笔：不可引入任何缺陷。
3.5 放大镜,放大倍数5～10。
3.6 钢板尺，最小刻度不大于1m
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