GB/T 24578-2015硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法.pdf

ICS77.040 H 17 中华人 民共和 国国家标准 / — GBT24578 2015 代替 / — GBT24578 2009 硅片表面金属沾污的全反射 X光荧光光谱测试方法 Testmethodformeasurin surfacemetalcontaminationonsiliconwafers g b totalreflectionX-Ra fluorescencesectrosco y y p py 2015-12-10发布 2017-01-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 / — GBT24578 2015 前 言 本标准按照 / — 给出的规则起草。 GBT1.1 2009 本标准代替 / — 《硅片表面金属沾污的全反射 光荧光光谱测试方法》。 GBT24578 2009 X / — , : 本标准与GBT24578 2009相比 主要变化如下 ——— , 、 , 、 、 扩大了标准适用范围 除适用于硅抛光片 外延片外 同样适用于测定砷化镓 碳化硅 SOI等 ( ); 材料镜面抛光晶片表面的金属沾污 见第 章 1 ——— ( )。 干扰因素中增加了晶片表面对测试结果的影响 见第 章 6 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会( / )与全国半导体设备和材料标准 SACTC203 化技术委员会材料分会( / / )共同提出并归口。 SACTC203SC2 : 、 、 本标准起草单位 有研新材料股份有限公司 万向硅峰电子股份有限公司 浙江省硅材料质量检验 中心。