GB/T 24578-2024半导体晶片表面金属沾污的测定　全反射X射线荧光光谱法.pdf

ICS77.040

CCSH21

中华人民共和国国家标准

/—

GBT245782024

代替/—,/—

GBT245782015GBT345042017

半导体晶片表面金属沾污的测定

全反射射线荧光光谱法

X

Testmethodformeasurinsurfacemetalcontaminationonsemiconductor

g

—

wafersTotalreflectionX-Rafluorescencesectrosco

yppy

2024-07-24发布2025-02-01实施

国家市场监督管理总局

发布

国家标准化管理委员会

/—

GBT245782024

前言

/—《:》

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GBT1.120201

起草。

/—《》

本文件代替硅片表面金属沾污的全反射光荧光光谱测试方法和

GBT245782015X

/—《》。/—

GBT345042017蓝宝石抛光衬底片表面残留金属元素测量方法与GBT245782015和

/—,,:

GBT345042017相比除结构调整和编辑性改动外主要技术变化如下

)(,/—/—);

更改了范围见第章和的第章

a1GBT245782015GBT3450420171

)“”();

b增加了全反射的定义见3.1

)(/—,/—