GB/T 30701-2014表面化学分析　硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定.pdf

ICS71.040.40 G04 中华人 民共和 国国家标准 / — / : GBT30701 2014ISO173312004 表表面化学分析 硅片工作标准样品表面 元素的化学收集方法和全反射 射线 X 荧光光谱法( )测定 TXRF — Surfacechemicalanalsis Chemicalmethodsforthecollectionofelements y fromthesurfaceofsilicon-waferworkin referencematerialsandtheir g ( ) determinationb total-reflectionX-ra fluorescenceTXRF sectrosco y y p py ( : , ) ISO173312004IDT 2014-06-09发布 2014-12-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 / — / : GBT30701 2014ISO173312004 目 次 前言 ………………………………………………………………………………………………………… Ⅲ 引言 ………………………………………………………………………………………………………… Ⅳ 1 范围 ……………………………………………………………………………………………………… 1 2 规范性引用文件 ………………………………………………………………………………………… 1 3 术语和定义 ……………………………………………………………………………………………… 1 4 缩略语 …………………………………………………………………………………………………… 2 5 试剂 ……………………………………………………………………………………………………… 2 6 仪器设备 ………………………………………………………………………………………………… 5 7 试样制备及其测量环境 ………………………………………………………………………………… 5 8 校准试样的制备 ………………………………………………………………………………………… 6 9 绘制校准曲线 …………………………………………………………………………………………… 7 / …………………………………………………………………… 10 工作标准样品上铁和