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《掠射角磁控溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜》
一、引言
随着纳米科技的飞速发展，纳米结构材料因其独特的物理和化学性质在众多领域中得到了广泛的应用。其中，氧化钨纳米薄膜因其良好的导电性、光学性能以及在气敏传感器、光电探测器等方面的潜在应用而备受关注。制备高质量的氧化钨纳米薄膜是研究其性能和应用的基础。掠射角磁控溅射技术作为一种先进的薄膜制备技术，具有沉积速率高、薄膜质量好、成分可控等优点，被广泛应用于制备各种纳米结构薄膜。本文将重点介绍掠射角磁控溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜的制备过程、性能分析以及应用前景。
二、制备方法
掠射角磁控溅射技术是一种物理气相沉积方法，通过在靶材表面施加磁场，利用高能粒子轰
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