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《孪生Al靶反应高功率脉冲磁控溅射放电特性及Al2O3薄膜沉积工艺研究》
孪生靶反应高功率脉冲磁控溅射放电特性及Al2O3薄膜沉积工艺研究
一、引言
随着科技的不断进步，高功率脉冲磁控溅射技术已成为制备薄膜材料的重要手段。孪生靶反应高功率脉冲磁控溅射技术，以其独特的溅射方式和高效的材料利用率，在制备Al2O3等氧化物薄膜方面具有显著优势。本文旨在研究孪生靶反应高功率脉冲磁控溅射放电特性及Al2O3薄膜的沉积工艺，为相关领域的研究和应用提供理论支持和实验依据。
二、孪生靶反应高功率脉冲磁控溅射技术概述
孪生靶反应高功率脉冲磁控溅射技术是一种先进的薄膜制备技术。该技术利用高功率脉冲磁场，通过磁控溅
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