集成电路制造技术——原理与工艺（第3版）课件 第5章 离子注入.pptx

;第五章;5.1;一、 概述;二、离子注入原理;注入离子的分布;入射离子与原子核的碰撞，即核阻挡的能量损失过程；;能量为E的一个注入离子与靶原子核碰撞，离子能量转移到靶原子核上，结果使离子改变运动方向，而靶原子核可能离开原位，成为间隙原子，或只是能量增加。 核阻止本领（Sn）：能量为E的注入离子在单位密度靶内运动单位长度时，损失给靶原子核的能量。;碰撞参数p ≤r1+r2;2.2 离子注入相关理论基础;;二、离子注入原理;一、 概述;;;注入离子在靶中的理论分布;注入离子在靶中的理论分布;注入离子在靶中的理论分布;;注入离子在靶中的理论分布;注入离子在靶中的分布---其他影响因素;;;4;一、 概述;;;注入损伤;注入损伤;注入损伤;注入损伤;注入损伤;;一、 概述;;;退火;退火;;退火;退火;退火;退火;一、 概述;;;离子注入的其它应用;离子注入的其它应用;离子注入的其它应用;离子注入的其它应用;;一、 概述