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0.18微米超浅结构造工艺：关键技术、挑战与应用前景探究
一、引言
1.1研究背景与意义
在当今科技飞速发展的时代，半导体技术作为现代信息技术的基石，始终处于不断演进的前沿。自半导体产业诞生以来，其发展历程见证了从电子管到晶体管，再到集成电路的重大跨越，每一次技术突破都极大地推动了电子设备的小型化、高性能化以及成本的降低。
随着摩尔定律的持续推进，半导体器件的尺寸不断缩小，芯片的集成度和性能得到了显著提升。在这一过程中，0.18微米工艺节点成为了半导体发展历程中的一个关键里程碑。它不仅标志着半导体技术进入了深亚微米时代，还为众多新兴应用领域的发展提供了有力支撑。
在0.18微米及以下的
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