一种窑具生产用氮化硅浸渍剂的配方及制备与应用工艺.pdf

一种制备β-氮化硅晶须的方法.docx PAGE 1- 一种制备β-氮化硅晶须的方法一、1.制备β-氮化硅晶须的基本原理 (1)β-氮化硅晶须作为一种新型陶瓷材料，因其具有高强度、高硬度、耐高温、耐腐蚀以及良好的热稳定性等优异性能，在航空航天、机械制造、电子信息等领域具有广泛的应用前景。制备β-氮化硅晶须的基本原理主要基于化学反应和物理变化的过程。首先，通过选择合适的原料，如氮化硅粉末、碳源和催化剂等，进行高温合成反应，利用这些原料在高温下发生化学反应，生成β-氮化硅晶须。在制备过程中，温度、压力、反应时间等参数的控制至关重要，它们直接影响到晶须的形貌、尺寸、结晶度和性能。 (2)β-氮化硅晶须的制备方法主要包括化学气相沉积法（C

2025-01-23 约2.1千字 4页立即下载

氮化硅的制备性质及应用.ppt 关于氮化硅的制备性质及应用第1页，共18页，星期日，2025年，2月5日*提纲·氮化硅的物理性质·氮化硅的化学结构·氮化硅的性能·氮化硅的制备方法·氮化硅的应用·国内形势·前景2第2页，共18页，星期日，2025年，2月5日*呈灰色、白色或灰白色六方晶系，晶体呈六面体不溶于水，溶于氢氟酸莫氏硬度：9~9.5维氏硬度：约2200显微硬度：32630MPa熔点：1900℃（加压下）常压下1900℃分解比热容：0.71J/(g·K)热导率：16.7W/(m·K)比体积电阻：20℃时1.4×105·m500℃时为4×108·m耐压强度：490MPa（反应烧结的）抗弯强度：147MPa3第3页，共18页

2025-02-17 约1.95千字 18页立即下载

硅粉快速氮化驱动的高热导氮化硅陶瓷：制备工艺、性能优化与应用前景.docx 硅粉快速氮化驱动的高热导氮化硅陶瓷：制备工艺、性能优化与应用前景一、引言 1.1研究背景与意义随着现代科技的飞速发展，高性能材料在各个领域的需求日益增长。氮化硅陶瓷作为一种重要的高性能陶瓷材料，凭借其出色的综合性能，在众多领域展现出了巨大的应用潜力。 氮化硅陶瓷具有一系列优异的性能。在力学性能方面，其硬度接近刚玉，机械强度可与合金媲美，并且具备良好的自润滑性，使其在机械制造领域中成为制造高速切削刀具、轴承等零部件的理想材料，能够显著提高设备的耐磨性能和使用寿命。在热学性能上，氮化硅陶瓷不仅具有较低的热膨胀系数，能有效抵抗热应力的作用，还拥有较高的导热率，这使得它在需要高效散热和承受热冲

2025-04-29 约2.49万字 29页立即下载

一种低氧铜杆生产用氧氮化硅-碳化硅复合砖的制备方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116396084 A (43)申请公布日 2023.07.07 (21)申请号 202310269755.0 C04B 35/80 (2006.01) (22)申请日 2023.03.

2023-07-07 约1.51万字 11页立即下载

量产α-相氮化硅的多步氮化工艺及α-相氮化硅.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114572942 A (43)申请公布日 2022.06.03 (21)申请号 202011371877.3 (22)申请日 2020.11.30 (71)申请人新疆晶硕新材料有限公司地址 83

2023-05-07 约1.47万字 10页立即下载

低温无压烧结氮化硅基陶瓷制备工艺研究.docx 低温无压烧结氮化硅基陶瓷制备工艺研究一、引言随着科技的不断进步，陶瓷材料因其优异的物理和化学性能，在众多领域得到了广泛应用。氮化硅基陶瓷作为一种重要的陶瓷材料，具有高硬度、高强度、良好的耐热性和化学稳定性等特点，被广泛应用于机械、电子、化工等领域。然而，传统的氮化硅基陶瓷制备工艺往往需要在高温高压的条件下进行，这不仅增加了生产成本，还可能对设备造成损害。因此，研究低温无压烧结氮化硅基陶瓷制备工艺，对于推动陶瓷材料的广泛应用和降低生产成本具有重要意义。二、文献综述在过去的研究中，氮化硅基陶瓷的制备工艺主要依赖于高温高压烧结技术。然而，这种技术存在能耗高、设备要求严格、易对环境造成污染等问

2025-04-30 约3.84千字 8页立即下载

一种碳纤维窑具的制备配方及制备工艺.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114538944 A (43)申请公布日 2022.05.27 (21)申请号 202210294159.3 C04B 35/584 (2006.01)

2023-05-11 约1.11万字 8页立即下载

一种高导热抗压的氮化硅基板及其生产工艺.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113388232 B (45)授权公告日 2022.05.06 (21)申请号 202110871493.6 C08L 61/34 (2006.01)

2023-06-20 约1.38万字 11页立即下载

2024-07-01 约3.17千字 30页立即下载

一种氮化硅分级轮.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号CN107626587A (43)申请公布日 2018.01.26 (21)申请号20171

2024-02-05 约4.89千字 5页立即下载

一种基于氮化硅干法刻蚀工艺的去氟方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114464528 A (43)申请公布日 2022.05.10 (21)申请号 202111643127.1 (22)申请日 2021.12.29 (71)申请人泉州市三安集成电路有限公司地址

2023-05-08 约9.97千字 8页立即下载

氮化硅薄膜制备技术.ppt 关于氮化硅薄膜制备技术什么叫做光学薄膜？所谓光学薄膜，首先它应该是薄的然后它应该会产生一定光学效应的那么要薄到什么程度呢？定性的讲：它的厚度应该和入射光波长可以相比拟的物理意义上讲：能引起光的干涉现象的膜层第2页,共12页，星期六，2024年，5月与镀膜技术密切相关的产业眼镜镀膜----AR幕墙玻璃----AR滤光片液晶领域----ITO膜车灯、冷光镜、舞台灯光滤光片光通信领域：DWDM、光纤薄膜器件红外膜激光领域----激光反射腔高反射膜CD、DVD驱动器投影显示数码领域第3页,共12页，星期六，2024年，5月氮化硅薄膜是一种重要的精细陶瓷薄膜材料，具有优秀的光电性能、钝化性能、稳定性

2024-12-07 约1.68千字 12页立即下载

氮化硅薄膜制备技术.ppt 第1页，共12页，星期日，2025年，2月5日什么叫做光学薄膜？所谓光学薄膜，首先它应该是薄的然后它应该会产生一定光学效应的那么要薄到什么程度呢？定性的讲：它的厚度应该和入射光波长可以相比拟的物理意义上讲：能引起光的干涉现象的膜层第2页，共12页，星期日，2025年，2月5日与镀膜技术密切相关的产业眼镜镀膜----AR幕墙玻璃----AR滤光片液晶领域----ITO膜车灯、冷光镜、舞台灯光滤光片光通信领域：DWDM、光纤薄膜器件红外膜激光领域----激光反射腔高反射膜CD、DVD驱动器投影显示数码领域第3页，共12页，星期日，2025年，2月5日氮化硅薄膜是一种重要的精细陶瓷薄膜材料，具有

2025-03-05 约1.46千字 12页立即下载

氮化硅薄膜制备技术.ppt 关于氮化硅薄膜制备技术什么叫做光学薄膜？所谓光学薄膜，首先它应该是薄的然后它应该会产生一定光学效应的那么要薄到什么程度呢？定性的讲：它的厚度应该和入射光波长可以相比拟的物理意义上讲：能引起光的干涉现象的膜层第2页,共12页，2024年2月25日，星期天与镀膜技术密切相关的产业眼镜镀膜----AR幕墙玻璃----AR滤光片液晶领域----ITO膜车灯、冷光镜、舞台灯光滤光片光通信领域：DWDM、光纤薄膜器件红外膜激光领域----激光反射腔高反射膜CD、DVD驱动器投影显示数码领域第3页,共12页，2024年2月25日，星期天氮化硅薄膜是一种重要的精细陶瓷薄膜材料，具有优秀的光电性能、钝化性能

2024-04-15 约1.7千字 12页立即下载

氮化硅薄膜制备技术.ppt 氮化硅薄膜 ----制备技术介绍02所谓光学薄膜，首先它应该是薄的然后它应该会产生一定光学效应的那么要薄到什么程度呢？定性的讲：它的厚度应该和入射光波长可以相比拟的物理意义上讲：能引起光的干涉现象的膜层01什么叫做光学薄膜？与镀膜技术密切相关的产业眼镜镀膜----AR幕墙玻璃----AR滤光片液晶领域----ITO膜车灯、冷光镜、舞台灯光滤光片光通信领域：DWDM、光纤薄膜器件红外膜激光领域----激光反射腔高反射膜CD、DVD驱动器投影显示数码领域氮化硅薄膜是一种重要的精细陶瓷薄膜材料，具有优秀的光电性能、钝化性能、稳定性能和机械性能，在微电子、光电和材料表面改性等领域有着广阔的应用前景

2025-02-16 约1.27千字 10页立即下载