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一种用于投影光刻最佳焦距测定的掩膜版及方法.pdf

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114578651 A (43)申请公布日 2022.06.03 (21)申请号 202011389376.8 (22)申请日 2020.12.02 (71)申请人株洲中车时代半导体有限公司地址

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