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光栅的无掩膜光刻实验研究.docx

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光栅的无掩膜光刻实验研究

光栅的无掩膜光刻实验研究

光栅的无掩膜光刻实验研究

摘要

在当代信息社会，集成电路的应用已经无处不在，并且在各行各业中扮演着关键的角色。在集成电路产业的发展过程中，光刻技术为推动产业发展起到了重要作用，它将设计的掩膜图形无偏差地转移到基片上，是半导体制造技术中最复杂、先进的技术之一。但由于掩膜版的成本日益高涨，阻碍了集成电路产业的发展，因此如何降低掩膜成本，采用无掩膜光刻技术就已经成为光刻业界的重点课题。

本篇论文研究了光刻技术和无掩膜光刻技术的基本原理与类型，研究了基于数字无掩膜曝光技术的实验。本次实验采用了MLL-

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