[信息与通信]半导体器件物理第三章_754505182.pdf
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微电子学研究所
微电子与纳电子学系
半导体器件
物理进展
第三章 PN结与MOS结构物理
PN Junction and MOS Structure
Physics
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本章主要内容
PN结的构成及其能带图
PN结的特性及原理
MOS结构及其能带图
MOS结构的阈值电压
MOS结构的C -V特性
MOS结构在高电场下的隧穿效应
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1. PN结的构成及其能带图
理想情况下,由一块N型半导体材料和一块P型半
导体材料相接触,就可以构成一个PN结。
在实际半导体器件与集成电路中,通常是通过材
料的外延生长以及扩散或离子注入等工艺技术来制造
各种PN结。PN结的最主要特点是具有单向导电性。
PN结及其
外加偏置条
件示意图
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下图所示为PN结单向导电性的示意图,其中左图
是在线性坐标中给出的PN结I -V特性,右图则是在半
对数坐标中给出的PN结I -V特性,从图中可见:PN
结具有单向导电性,即正向导通,反向截止;正向导
通电流与外加的正偏电压成指数增长关系,而反向漏
电流则基本保持恒定。
PN结的正反向特性示意图
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PN结形成前后的能带示意图:
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在没有外加偏置的热平衡条件下,PN结中的电子
电流和空穴电流均为零,由此可得到:
r ⎛ r kT dn ⎞
J n qμn ⎜⎜nE + ⎟⎟ 0
⎝ q dx ⎠
dE
r dψi Ei Ef f 0
E − ψ − ψ −
dx i q f q dx
( ) ( )
E −E kT q ψ −ψ kT
f i i f
n n e n e
i i
可见,在半导体材料中,电子电流或空穴电流为
零的条件就是费米能级在空间各处保持恒定。而空间
上保持恒定的费米能级势必导致零偏PN结内部形成
内建势垒和内建电势差。
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