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光刻工艺培训教程 2009 年 10 月 31 日 星期六 15:51 一. 总纲
什么是光刻？对光刻总的质量要求是什么？
光刻就是将掩膜版上的几何图形转移到涂有一层光刻胶的硅片表面的工艺过程。对光刻总的质量要求为：
①条宽符合指标要求
②套刻精度符合指标要求
③胶厚符合指标要求
④无缺陷
⑤胶图形具有较好的抗腐蚀能力
在我们生产线的工艺中，一般有那些光刻工序层次？其中那些是关键层，为什么称之为关键层？
对不同的工艺流程，光刻的层次可能会有所不同，一个典型的 1.0 微米单多晶双铝工艺一般需要有如下的光刻层次：阱，有源区，场注，多晶，N-LDD，N+S/D，P+S/D，接触孔， 孔注，金属-
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