磁控溅射制备氮化硅薄膜特性研究的任务书.docx

磁控溅射制备氮化硅薄膜特性研究的任务书

任务书

任务名称：磁控溅射制备氮化硅薄膜特性研究

任务目的：

1.研究磁控溅射制备氮化硅薄膜的工艺参数对于薄膜性质的影响。

2.分析氮化硅薄膜的机械性能、光学性能、电学性能等特性。

3.探究氮化硅薄膜在微电子、光电子等领域的应用前景。

任务细节：

1.通过文献调研，明确磁控溅射制备氮化硅薄膜的原理和设备工艺。

2.设计实验方案，选择合适的工艺参数和实验方法，制备氮化硅薄膜并对薄膜进行表征。

3.对实验数据进行分析和处理，研究工艺参数和薄膜性质之间的关系。

4.测量氮化硅薄膜的机械性能，如硬度、弹性模量等，并探究其形变行为。

5.测量氮化硅薄膜的光学性能，如透过率、折射率、膜厚等，以及介电常数等电学性能。

6.根据研究结果，评估氮化硅薄膜在微电子、光电子中的应用前景，对其潜在应用领域进行分析。

7.撰写研究报告，对研究过程和结果进行总结和归纳，并提出进一步研究的建议和展望。

任务时间安排：

本次任务总计约30天，具体安排如下：

1.第1-2天：文献调研和实验设计。

2.第3-12天：实验制备氮化硅薄膜并进行表征。

3.第13-20天：数据分析和处理，对实验结果进行评估。

4.第21-25天：氮化硅薄膜的机械性能和光学性能测试。

5.第26-27天：应用前景分析和撰写研究报告。

6.第28-30天：研究报告修改和完善。

任务参与者：

本次任务由研究人员和实验室技术人员共同完成，其中研究人员需具备微电子、光电子或材料科学等相关专业的知识和研究经验，实验室技术人员需具备相关的实验操作技能和经验。

任务成果：

1.研究报告一份，主要包括实验设计、实验结果、数据分析和应用前景分析等内容。

2.实验操作记录、数据统计表格和研究论文等附加文献。

3.实验制备的氮化硅薄膜样品和测试数据。