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基于宽光谱自参考干涉光谱分析的对准方法：原理、应用与优化
一、引言
1.1研究背景与意义
在当今科技飞速发展的时代，高精度对准技术作为众多前沿领域的关键支撑，其重要性不言而喻，特别是在半导体制造、光学精密加工以及天文观测等对精度要求极高的领域，高精度对准技术的水平直接影响着产品质量、系统性能以及科学研究的进展。
在半导体制造领域，随着集成电路朝着更小尺寸、更高集成度的方向不断发展，光刻技术作为集成电路制造的核心技术，对其精度的要求也日益严苛。光刻过程中，掩模版与硅片之间的对准精度直接决定了芯片的套刻精度，而套刻精度通常需达到光刻机分辨率指标的1/3-1/5。一旦套刻精度超出允许范围，
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