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基于宽光谱自参考干涉光谱分析的对准方法的创新与实践
一、引言
1.1研究背景与意义
在当今数字化时代，集成电路作为现代信息技术的核心，广泛应用于电子设备、通信系统、计算机等各个领域，已成为现代日常生活不可或缺的部分。随着社会信息化水平的不断提高，人们对集成电路的性能、体积和集成度提出了越来越高的要求。而光刻技术作为生产集成电路不可缺少的关键技术，其发展水平直接决定了集成电路的特征尺寸和集成度，成为推动集成电路产业进步的核心驱动力。
光刻技术的原理是通过对硅片涂覆光刻胶，利用光学系统将掩模版上的电路图案投影到光刻胶上，再经过曝光、显影、烘干及腐蚀等多个步骤，在硅片上留下该层的线路，然后通过多层
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