掩膜组件及套准量测方法.pdf
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN111198478A
(43)申请公布日
2020.05.26
(21)申请号20181
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（71）申请人株式会社迪思科
地址日本东京都
（72）发明人松崎荣
（74）专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司
代理人李辉
（51）Int.CI
G03F1/68;
权利要求说明书说明书幅图
（54）发明名称
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（57）摘要
提供曝光掩模的制造方法，该曝光掩模的
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