一种新型源漏结构的全耗尽SOI场效应晶体管的仿真研究.pdf
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一种新型源漏结构的全耗尽SOI场效应晶体管的仿真研究摘要
一种新型源漏结构的全耗尽SOI场效应晶体管的
仿真研究
摘要
本文首次提出了一种与全耗尽SOI技术相兼容的MOSFET,其包含一种新型的
源漏结构。该结构的特点是在埋氧和沟道界面注入了固定的正电荷,形成了两个高
电导源/漏扩展区。这种结构能够替代传统的轻掺杂漏(Light
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一种新型源漏结构的全耗尽SOI场效应晶体管的仿真研究摘要
一种新型源漏结构的全耗尽SOI场效应晶体管的
仿真研究
摘要
本文首次提出了一种与全耗尽SOI技术相兼容的MOSFET,其包含一种新型的
源漏结构。该结构的特点是在埋氧和沟道界面注入了固定的正电荷,形成了两个高
电导源/漏扩展区。这种结构能够替代传统的轻掺杂漏(Light