TCSTM-基于化学气相沉积法（CVD）石墨烯薄膜评价指南.pdf

ICSXX.XXX.XX

CCSXXXX

团体标准

T/CSTMXXXXX—202X

基于铜衬底化学气相沉积法（CVD）石墨

烯薄膜评价指南

EvaluationguidelinesforCVDGraphenefilmonCoppersubstrates

202X-XX-XX发布202X-XX-XX实施

中关村材料试验技术联盟发布

T/CSTMXXXXX—2024

前言

本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规

定起草。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本文件由中国材料与试验标准化委员会基础与共性技术标准化领域委员会（CSTM/FC00）提出。

本文件由中国材料与试验标准化委员会基础与共性技术标准化领域委员会（CSTM/FC00）归口。

I

T/CSTMXXXXX-2024

基于铜衬底化学气相沉积法（CVD）石墨

烯薄膜评价指南

1范围

本文件规定了CVD石墨烯薄膜评价基本原则、核心指标及评价方法、一般要求、评价程序、评价

报告。

本文件适用于转移前CVD石墨烯薄膜（Cu基底）和转移后CVD石墨烯薄膜的评价。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，

仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本

文件。

GB/T30544.13纳米科技术语第13部分：石墨烯及相关二维材料

GB/T40069-2021纳米技术石墨烯相关二维材料的层数测量拉曼光谱法

GB/T40071纳米技术石墨烯相关二维材料的层数测量光学对比度法

GB/T43682纳米技术亚纳米厚度石墨烯薄膜载流子迁移率及方块电阻测量方法

HG/T5077光学功能薄膜近红外光谱透过率的测量方法

JJF1059-2012测量不确定度评定与表示

T/CSTM00166.1石墨烯材料表征第1部分拉曼光谱法

3术语和定义

GB/T30544.13界定的以及下列术语和定义适用于本文件。

3.1

石墨烯薄膜graphenefilm

由石墨烯构成的纳米薄片。

注：常见厚度小于3nm。

[来源：GB/T40071-2021，3.3]

3.2

化学气相沉积法chemicalvapordeposition（CVD）

通常先加热,利用气态前驱体或混合前驱体的化学反应实现固体材料在衬底上的沉积。

[来源：GB/T30544.13-2018，3.2.1.1]

3.3

完整度intactness

光学显微镜图像中石墨烯覆盖的基底面积与总基底面积之比。

3.4

1