《化学气相沉积法（CVD）在石墨烯制备中的应用》课件.ppt

化学气相沉积法（CVD）在石墨烯制备中的应用;目录;第一部分：石墨烯基础知识;石墨烯的结构特征;石墨烯的发现历程;石墨烯的基本性质;石墨烯的制备方法概述;各种制备方法的比较;第二部分：CVD技术原理;化学气相沉积法基本原理;CVD系统组成;CVD制备石墨烯的反应机理;CVD工艺的类型;CVD反应动力学;第三部分：CVD制备石墨烯的方法;金属基底上的CVD生长;铜基底CVD制备石墨烯;镍基底CVD制备石墨烯;绝缘基底直接生长;卷对卷CVD生长技术;第四部分：工艺参数与优化;碳源选择与影响;温度对石墨烯生长的影响;压力参数控制;气体流量与比例优化;基底预处理技术;生长时间优化;冷却过程控制;第五部分：表征与分析;光学显微镜表征;拉曼光谱分析;原子力显微镜（AFM）表征;扫描电子显微镜（SEM）分析;透射电子显微镜（TEM）表征;电学性能测试;X射线光电子能谱（XPS）分析;第六部分：应用领域;电子器件应用;能源领域应用;传感器技术;光电子学应用;复合材料增强;生物医学应用;第七部分：挑战与发展趋势;当前CVD制备石墨烯的挑战;石墨烯掺杂改性;转移技术创新;;工业化生产进展;总结与展望