T_CSTM 01199—2024(多层金属薄膜层结构测量分析方法X射线光电子能谱).pdf
ICS29.045
CCSH80
团体标准
台
T/CSTM01199—2024
平
息用
信使
X
多层金属薄膜层结构测量分析方法射
布
线光电子能谱
准
发
Multilayermetalfilm-Measurementandanalysismethodoflayer
structure-X-rayphotoelectronspectroscopy
标
准
标
体
M
T
团
S
C
国
全
2024-01-05发布2024-04-05实施
中关村材料试验技术联盟发布
T/CSTM01199—2024
前言台
本文件参照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》,GB/T
20001.4《标准编写规则第4部分:试验方法标准》的规定起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由中国材料与试验标准化委员会科学试验标准化领域委员会(CSTM/FC98)提出。
平
本文件由中国材料与试验标准化委员会科学试验领域创新方法标准化技术委员会
(CSTM/FC98/TC02)归口。息用
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