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新解读《GB_T 41064 - 2021表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法》最新解读.pptx

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《GB/T41064-2021表面化学分析深度剖析用单层和

多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法》最新解读

一、标准核心技术原理深度解析

（一）X射线光电子能谱（XPS）溅射原理

XPS通过X射线激发样品表面原子，使内层电子电离成为光电子。在深度剖析中，溅射是为了逐层剥离样品表面，从而获取不同深度的信息。溅射过程中，离子束

（如氩离子束）轰击样品表面，离子的动能传递给表面原子，使其克服表面结合能而脱离样品表面。这一过程与样品表面原子的种类、化学键状态以及离子束的能量、角度等因素密切相关。例如，不同元

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