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脉冲真空弧离子源等离子体参数诊断:方法、应用与挑战
一、引言
1.1研究背景与意义
在现代科学与技术的前沿领域,脉冲真空弧离子源(PulsedVacuumArcIonSource)作为一种独特且强大的离子产生装置,正发挥着日益关键的作用。它以其紧凑的结构、能够在低工作压强下运行、可产生大束流以及随时能启动工作的显著优势,在材料表面改性、薄膜制备、离子注入等众多领域展现出不可替代的价值。在材料表面改性中,通过脉冲真空弧离子源产生的离子束轰击材料表面,能够改变材料表层的组织结构和性能,从而提高材料的耐磨性、耐腐蚀性以及硬度等;在薄膜制备领域,其可作为离子源,为薄膜的沉积提供所需的离子,制
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