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离子注入半导体改性论文
摘要：随着科技的快速发展，半导体材料在各个领域中的应用越来越广泛。离子注入技术作为一种重要的半导体改性手段，对提高半导体材料的性能具有重要意义。本文针对离子注入半导体改性技术进行了深入探讨，分析了其原理、应用领域、优缺点等，旨在为相关领域的研究者和工程技术人员提供参考。
关键词：离子注入；半导体改性；原理；应用；优缺点
一、引言
（一）离子注入半导体改性技术的原理
1.内容一：离子注入技术的基本原理
（1）离子注入技术是一种将高能离子束轰击半导体材料表面，使离子嵌入半导体晶格中，从而改变材料电子结构和性能的方法。
（2）离子注入过程涉及离子束与靶材的相互作用，主要包括
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