文档详情

一种射频和直流共溅射灰色装饰膜层及其方法和应用.pdf

发布：2023-05-05约1.79万字共12页下载文档

文本预览下载声明

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114457312 A (43)申请公布日 2022.05.10 (21)申请号 202210035636.4 C23C 14/35 (2006.01)

显示全部

相似文档

双靶直流反应磁控共溅射沉积TiAlN薄膜及其性能研究的开题报告.docx 双靶直流反应磁控共溅射沉积TiAlN薄膜及其性能研究的开题报告题目：双靶直流反应磁控共溅射沉积TiAlN薄膜及其性能研究一、选题背景 TiAlN薄膜是一种在高温和低摩擦条件下具有优异机械性能和化学稳定性的先进功能材料，其广泛应用于刀具、航空航天、汽车等行业。传统的制备方法如物理气相沉积、化学气相沉积等存在着生产率低，成本高，样品质量不稳定等缺点，制约了TiAlN薄膜的应用。双靶直流反应磁控共溅射技术是一种先进的TiAlN制备技术，其制备速度快、质量稳定，适用于大规模、工业化制备TiAlN薄膜。二、研究目的和意义本课题旨在通过双靶直流反应磁控共溅射技术制备优质的TiAlN薄膜，在此基础上
2023-12-19 约小于1千字 2页立即下载
双靶直流反应磁控共溅射沉积TiAlN薄膜及其性能研究的开题报告.pdf 双靶直流反应磁控共溅射沉积TiAlN薄膜及其性能研究的开题报告题目：双靶直流反应磁控共溅射沉积TiAlN薄膜及其性能研究一、选题背景 TiAlN薄膜是一种在高温和低摩擦条件下具有优异机械性能和化学稳定性的先进功能材料，其广泛应用于刀具、航空航天、汽车等行业。传统的制备方法如物理气相沉积、化学气相沉积等存在着生产率低，成本高，样品质量不稳定等缺点，制约了TiAlN薄膜的应用。双靶直流反应磁控共溅射技术是一种先进的TiAlN制备技术，其制备速度快、质量稳定，适用于大规模、工业化制备TiAlN薄膜。二、研究目的和意义本课题旨在通过双靶直流反应磁控共溅射技术制备优质的TiAlN薄
2024-09-21 约1.09千字 2页立即下载
一种直流断路器及其应用方法.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112838576 A (43)申请公布日 2021.05.25 (21)申请号 202110169193.3 (22)申请日 2021.02.07 (71)申请人全球
2023-06-03 约1.44万字 15页立即下载
一种钽靶材及其溅射面的处理方法.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112828541 A (43)申请公布日 2021.05.25 (21)申请号 202110002846.9 (22)申请日 2021.01.04 (71)申请人宁波江丰电子材料股份有限公司
2023-06-02 约9.88千字 8页立即下载
一种钨硅靶材及其溅射面的抛光方法.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112809455 A (43)申请公布日 2021.05.18 (21)申请号 202110003425.8 C23C 14/34 (2006.01) (22)申请日 2
2023-06-04 约1.03万字 8页立即下载
基于低表面能材料共溅射降低短波长多层膜界面宽度的方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114875370 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210209576.3 C23C 14/14 (2006.01)
2023-05-15 约8.38千字 7页立即下载
一种HEMT射频器件及其制备方法和应用.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114883400 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210358702.1 (22)申请日 2022.04.07 (71)申请人华南理工大学地址 51064
2023-05-15 约1.07万字 7页立即下载
一种防冲击碎裂溅射的压克力及其板材制备方法.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113372501 A (43)申请公布日 2021.09.10 (21)申请号 202110793649.3 C08F 212/08 (2006.01)
2023-06-21 约8.39千字 7页立即下载
一种真空溅射纤维镀银及其产品和应用.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112796102 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 202011606623.5 C23C 14/34 (2006.01)
2023-06-05 约1.03万字 8页立即下载
一种基于灰色理论的电力负荷预测系统及其方法.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113408795 A (43)申请公布日 2021.09.17 (21)申请号 202110620523.6 G06F 16/2458 (2019.01)
2023-06-19 约1.05万字 10页立即下载
一种杀菌灰色复合镀层及其制备方法和灰色杀菌产品.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114540895 A (43)申请公布日 2022.05.27 (21)申请号 202210195816.9 C25D 5/44 (2006.01)
2023-05-07 约1.41万字 14页立即下载
溅射镀膜原理及其应用.ppt Hightargetutilizationsputtering(HiTUS)technology Sputteringisgenerallythepreferredoptionforcoatingtechnologies.Bothconventional magnetronandionbeamsputteringhavelimitationsregardingthedepositionratecontrol. Magnetronsputteringinparticularisalsoinefficientintermsoftargetutilizationanddoesnotallow spu
2025-02-17 约5.32千字 45页立即下载
溅射镀膜原理及其应用.ppt 溅射镀膜的步骤溅射镀膜一般有以下几步：1.放置膜料及装入产品2.抽真空：包括粗抽和精抽，一般真空度达到6.0-3以上；3.辉光清洗：通入惰性气体（一般为Ar),真空度1Pa左右，打开辉光清洗电源，清洗偏压及时间由素材表面状况及附着力要求决定。4.镀膜5.破真空，取产品：镀膜完成后，（待工艺要求，有时候会充入氩气冷却）对真空室充入大气，待达到大气压，打开真空室门取出产品。第31页，共45页，星期日，2025年，2月5日磁控溅射工业应用磁控溅射在PVD行业是应用及研究最广泛的，在装饰、工模具镀膜、太阳能、幕墙玻璃、半导体、显示屏等许多行业都有广泛的应用。在此对以上某几个方面的应用做简单介绍。1.装
2025-05-02 约6.24千字 45页立即下载
函数型灰色关联分析方法及其应用研究.docx 函数型灰色关联分析方法及其应用研究目录内容概括．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．2 1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．2 1.2国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3 函数型灰色系统理论基础．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4 2.1灰色系统的概念与基本原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4 2.2函数型灰色系统的基本特征．．．．．．．．．
2025-03-12 约1.23万字 18页立即下载
数学建模案例分析—灰色系统方法建模3灰色模型GM(1,N)及其应用.doc
2018-03-24 约字 2页立即下载