一种大口径平面光学元件面形绝对测量系统.pdf

光干涉在光学元件面形测量中的应用.pdf 维普资讯第24卷第2期物理测试Vo1．24。No．2 2006年3月PhysicsExaminationandTestingMar．2006 光干涉在光学元件面形测量中的应用王占芹，于瀛洁 (上海大学精密机械工程系，上海200072) 摘要：干涉计量技术由于能进行全场测量、非接触、精度和灵敏度高等特点在生产和研究中得到了广泛的应用。很多情况下，被测物理量和光学位相直接相关。本文从基本概念出发，介绍了光、光程、光程差和位相，对应用位相测量光学元件面形的原理做了详细的阐述，并简要列举了现在求取位相常用的方法：时间相移法、空间相移法、载波条纹的Fourier变换法和载波条纹的时域法。关键

2025-06-04 约1.07万字 4页立即下载

全口径环形抛光的光学元件面形误差影响因素及其控制 .pdf 第32卷第3期光学精密工程Vol.32No.3 2024年2月OpticsandPrecisionEngineeringFeb.2024 文章编号1004-924X（2024）03-0333-11 全口径环形抛光的光学元件面形误差影响因素及其控制 * 廖德锋，张明壮，谢瑞清，赵世杰，许乔中国工程物理研究院激光聚变研究中心，四川绵阳621900 （）摘要：全口径环形抛光是加工大口径平面光学元件的关键技术之一，其瓶颈问题是元件面形的高效高精度控制。通过研究元件面形的影响因素及其控制方法从而提升其确定性控制水平。围绕影响面形误差的运动速度、抛光盘表面形状误差和钝化状态等关键工艺因素，建立基

2024-11-22 约2.98万字 11页立即下载

《大口径光学元件环形抛光的面形误差影响规律与工艺控制》.docx 《大口径光学元件环形抛光的面形误差影响规律与工艺控制》一、引言随着光学技术的不断进步，大口径光学元件在航空航天、精密仪器、光学通信等领域的应用越来越广泛。其中，环形抛光技术作为大口径光学元件制造过程中的关键环节，其面形误差对光学元件的性能和成像质量具有重要影响。因此，研究大口径光学元件环形抛光的面形误差影响规律与工艺控制，对于提高光学元件的制造精度和性能具有重要意义。二、大口径光学元件环形抛光技术概述 大口径光学元件环形抛光技术是一种通过机械、化学或电化学等方法，对光学元件表面进行高精度抛光的技术。其目的是使光学元件表面达到所需的形状精度和表面质量。环形抛光技术具有高精度、高效率、低成本

2025-01-02 约8.13千字 16页立即下载

大口径平面光学元件加工的工艺方法研究的中期报告.docx 大口径平面光学元件加工的工艺方法研究的中期报告摘要：本文在大口径平面光学元件（如镜片、棱镜等）加工过程中，研究了一种新的工艺方法。该方法基于传统的机械加工和电火花加工，通过将两种加工方法结合起来，既能够保证加工精度，又能够提高加工效率。具体而言，该方法的核心在于，在机械加工的初期阶段，先将工件表面平整化，然后再采用电火花加工进行加工。这样做的好处在于，通过初期的机械加工，可以消除工件表面的凹凸不平，使得后续的电火花加工更加精确。同时，通过机械加工与电火花加工的结合，可以大大降低加工时间。本文通过对该工艺方法实验的结果分析，证明了该方法能够显著提高制造精度和效率。关键词：平面光学元件；大口

2024-04-24 约1.57千字 3页立即下载

试验六平面光学元件的光学不平行度测量.DOC 光学测量实验指导书目录实验一平行光管调校（自准直法） 1 实验二平行光管调校（五棱镜法） 3 实验三 V棱镜折光仪测折射率和色散 6 实验四简式偏光应力仪测量玻璃双折射 10 实验五光学零件曲率半径测量 12 实验六 平面光学元件的光学不平行度测量 15 实验七刀口阴影法检验面形偏差 18 实验八 光学系统分辨率检测 21 实验九 光学系统的星点检验 25 实验十 光学系统杂光系数测量 27 实验一平行光管调校（自准直法）一、实验项目 1．了解自准直法调校平行光管的原理，并掌握其调校方法。 2．分析调校误差，并总结其特点。二、实验要求及

2018-04-27 约1.87万字 31页立即下载

一种大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114871902 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210458271.6 (22)申请日 2022.04.27 (71)申请人西安应用光学研究所

2023-05-18 约8.67千字 9页立即下载

一种光学元件测量夹持装置.pdf (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号CN220516597U (45)授权公告日2024.02.23 (21)申请号202322103950.4 (22)申请日2023.08.07 (73)专利权人苏州大学地址215006

2024-02-22 约6.16千字 8页立即下载

一种改善光学晶片面形的研磨方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114800052 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210273295.4 B24B 37/34 (2012.01)

2023-05-17 约1.04万字 12页立即下载

一种大口径摆镜的高精度面形约束装置及方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 114545587 B (45)授权公告日 2023.03.31 (21)申请号 202210285729.2 (56)对比文件 (22)申请日 2022.03.23

2023-05-11 约8.43千字 8页立即下载

基于离子束的光学薄膜元件的面形控制方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114815130 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210237570.7 (22)申请日 2022.03.11 (71)申请人中国科学院上海光学精密机械研究

2023-05-14 约6.73千字 6页立即下载

大口径曲面光学元件检测系统及表面疵病图像处理研究.pdf 摘要在激光辐照下熔石英曲面光学元件的表面极易产生疵病，如不及时进行修复，表面疵病尺寸将呈指数倍增长。因此，需对熔石英曲面光学元件进行离线检测修复。由于熔石英表面疵病数量多、尺寸小，需采用高分辨率相机对其进行快速扫描，并对获取的疵病图像进行处理以获得疵病信息。本课题将基于已搭建的多自由度熔石英光学元件定位平台，开发曲面光学元件暗场检测系统及表面疵病识别算法，使其能够实现对曲面元件表面疵病的准确、有效检测。首先从检测原理、扫描路径和图像处理三个方面分析并设计了曲面光学元件表面疵病检测系统的总体方案，设计了线阵光源最佳入射角，线阵CCD的有效作用长度和改进的LASNR阈值分割算法等

2025-05-10 约6.99万字 63页立即下载

XUV双元件平面对称光学系统像差的开题报告.pdf XUV双元件平面对称光学系统像差的开题报告 1.研究背景和意义光学成像系统是目前很多领域中不可或缺的工具，如医学成像、机器视觉、天文学观测等等。其中，像差是影响成像质量的重要因素之一。因此，研究光学系统中的像差对优化成像质量、提高系统对目标的识别能力、以及增强成像系统的稳定性等具有重要的意义。 2.研究内容和方法本次研究主要探究XUV双元件平面对称光学系统的像差特性，并对其进行分析和优化。具体内容包括：（1）测量和分析系统的相位传递函数，获得系统的MTF （ModulationTransferFunction）曲线和频率特征。（2）利用ZEMAX软件建立XUV双元件平面对称光学

2024-10-02 约1.08千字 2页立即下载

大口径光学平面的子孔径拼接检验研究.pdf 第3 2 卷第4 期光学技术 Vol . 32 No . 4 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 2 0 0 6 年 7 月 OP TICAL TECHN IQU E J uly 　2006 文章编号 : (2006) 0

2015-09-03 约字 4页立即下载

一种光学元件镀膜夹.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213388878 U (45)授权公告日 2021.06.08 (21)申请号 202022428394.4 (22)申请日 2020.10.28 (73)专利权人济南华度光学技术有限公司

2023-03-08 约6.51千字 7页立即下载

一种光学偏折三维测量中的大视场参考平面标定方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113345029 B (45)授权公告日 2022.08.02 (21)申请号 202110670638.6 (56)对比文件 (22)申请日 2021.06.17

2023-06-16 约1.58万字 11页立即下载