一种基于过滤弧源的离子注入沉积装置及沉积方法.pdf
文本预览下载声明
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114883164 A
(43)申请公布日 2022.08.09
(21)申请号 202210417735.9
(22)申请日 2022.04.20
(71)申请人 华南理工大学
地址 510640
显示全部