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一种基于过滤弧源的离子注入沉积装置及沉积方法.pdf

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114883164 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210417735.9 (22)申请日 2022.04.20 (71)申请人 华南理工大学 地址 510640
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