大处理量低温真空蒸发器.pdf

日处理量为吨牛奶双效真空蒸发器装置的设计..doc 吉林化工学院食品工程原理课程设计吉林化工学院食品工程原理课程设计题目日处理量为15吨牛奶双效真空蒸发器装置的设计教学院化工与生物技术学院专业班级食品科学与工程1202班学生姓名学生学号指导教师 2014年5月13日 PAGE \* MERGEFORMAT PAGE \* MERGEFORM

2019-04-10 约1.37万字 26页立即下载

日处理量为吨牛奶双效真空蒸发器装置的设计分析报告.doc 吉林化工学院食品工程原理课程设计题目日处理量为15吨牛奶双效真空蒸发器装置的设计教学院化工与生物技术学院专业班级食品科学与工程1202班学生姓名学生学号指导教师 2014年5月13日目录中文摘要 1 食品工程原理课程设计任务书 2 1 概述与设计方案的选择 3 1.1 概述 3 1.2 设计方

2016-04-09 约1.09万字 26页立即下载

《真空蒸发镀膜法》.pdf 第二章真空蒸发镀膜法第二章真空蒸发镀膜法 §2-1真空蒸发原理 §2-2蒸发源的蒸发特性及膜厚分布 §2-3蒸发源的类型 §2-4合金及化合物的蒸发 §2-5膜厚和淀积速率的测量与监控整理课件1 真空蒸发镀膜法〔简称真空蒸镀〕在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从外表气化逸出，形成蒸气流，入射到固体〔称为衬底或基片〕外表，凝结形成固态薄膜的方法。由于真空蒸发法或真空蒸镀法主要物理过程是通过加热蒸发材料而产生，所以又称为热蒸发法。整理课件2 §2-1真空蒸发原理 §2-1真空蒸发原理一、真空蒸发的特点与蒸发过程图2-1真空蒸发镀膜原理整理课件3 (

2024-10-18 约2.62万字 89页立即下载

真空蒸发镀膜.ppt 2）点蒸发源的蒸发特性与膜厚分布图1点蒸发源的发射示意图①点源的定义：一个能够向各个方向等量发射膜材的微小球状蒸发源称为点蒸发源（简称点源）。点源的发射模式：中心球面图1点蒸发源的发射示意图01点源的蒸发特性：点源dA1以每秒m克的蒸发速02率均等的向各个方向蒸发，则单位时间内在任03何方向上通过立体角dω的蒸发材料质量为：04kg/s05m—点源的总蒸发速率kg/s；06dω—dA平面的立体角（弧度）07假定膜材密度为ρ，则单位时间内沉积在dA2平面08上的膜材平均厚度为：1点源对平面基片蒸发的膜厚分布点P（x，y，h）处的膜厚2垂足处膜最厚：3各点的相对膜厚：各点的相对膜厚：平均膜厚：膜材

2025-03-12 约4.85千字 10页立即下载

2真空蒸发镀膜法.ppt 双源或多源蒸发法将要形成合金的每一成分，分别装入各自的蒸发源中，然后独立地控制其蒸发速率，使达到基板的各种原子符合组分要求。三、合金及化合物的蒸发基板需要旋转 ★ 化合物的蒸发反应蒸发法、三温度法等。反应蒸发法将活性气体导入真空室，并与蒸发源逸出的金属原子、低价化合物分子在基板表面淀积过程中发生化学反应，从而形成所需高价化合物薄膜。蒸发原子或低价化合物分子与活性气体发生反应有三个可能的部位：蒸发源表面（尽可能避免）蒸发源到基板的空间（反应几率很小）基板表面（主要反应部位）三、合金及化合物的蒸发三、合金及化合物的蒸发三温度法

2017-06-06 约4.23千字 49页立即下载

真空蒸发蒸发镀膜.ppt 第二节蒸发源的蒸发特性及膜厚分布★点蒸发源能够从各个方向蒸发等量材料的微小球状蒸发源称为点蒸发源（点源）。第31页，讲稿共77页，2023年5月2日，星期三第二节蒸发源的蒸发特性及膜厚分布在基板平面内薄膜厚度分布：当在点源正上方，即时，膜层厚度为：第32页，讲稿共77页，2023年5月2日，星期三第二节蒸发源的蒸发特性及膜厚分布★小平面蒸发源这种蒸发源的发射特性具有方向性，使得在角方向蒸发的材料质量和成正比。第33页，讲稿共77页，2023年5月2日，星期三第二节蒸发源的蒸发特性及膜厚分布当在点源正上方，即时，膜层厚度为：在基板平面内薄膜厚度分布：第34页，讲稿共77页，2023年5月2日，星

2024-01-26 约6.85千字 77页立即下载

真空蒸发蒸发镀膜.ppt 第二节蒸发源的蒸发特性及膜厚分布★点蒸发源能够从各个方向蒸发等量材料的微小球状蒸发源称为点蒸发源（点源）。第31页，共77页，星期日，2025年，2月5日第二节蒸发源的蒸发特性及膜厚分布在基板平面内薄膜厚度分布：当在点源正上方，即时，膜层厚度为：第32页，共77页，星期日，2025年，2月5日第二节蒸发源的蒸发特性及膜厚分布★小平面蒸发源这种蒸发源的发射特性具有方向性，使得在角方向蒸发的材料质量和成正比。第33页，共77页，星期日，2025年，2月5日第二节蒸发源的蒸发特性及膜厚分布当在点源正上方，即时，膜层厚度为：在基板平面内薄膜厚度分布：第34页，共77页，星期日，2025年，2月5日第二

2025-04-06 约6.79千字 77页立即下载

真空蒸发镀膜技术.pdf !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! ! ! ! ! ! !

2018-01-03 约11.83万字 93页立即下载

2025至2030年中国低温真空蒸发器数据监测研究报告.docx 2025至2030年中国低温真空蒸发器数据监测研究报告目录 TOC\o1-3\h\z\u一、中国低温真空蒸发器行业现状 3 1、行业概况与发展趋势 3 低温真空蒸发器的定义及应用领域 3 市场规模及年复合增长率 5 主要企业及市场份额 7 2、行业供需状况 9 产能、产量及产能利用率 9 需求量及进出口情况 10 市场供给与需求匹配度 12 二、中国低温真空蒸发器行业竞争与技术 15 1、市场竞争格局 15 主要企业竞争策略分析 15 行业集中度及市场壁垒 17 新加入者的威胁及替代品分析 19

2025-03-25 约3.74万字 48页立即下载

真空蒸发镀膜法幻灯片.ppt 1．反应蒸发法将活性气体导入真空室，使活性气体的原子、分子和从蒸发源逸出的蒸发金属原子、低价化合物分子在基板表面淀积过程中发生反应，从而形成所需高价化合物薄膜的方法。不仅用于热分解严重，而且用于因饱和蒸气压较低而难以采用电阻加热蒸发的材料。经常被用来制作高熔点的化合物薄膜，特别是适合制作过渡金属与易分解吸收的O2、N2等反应气体所组成的化合物薄膜。在反应蒸发中，蒸发原子或低价化合物分子与活性气体发生反应的地方有三种可能，即蒸发源表面、蒸发源到基板的空间和基板表面。 * * * 2．三温度法从原理上讲，就是双蒸发源蒸发法。把III-V族化合物半导体材料置于坩埚

2017-11-30 约1.75万字 89页立即下载

第二章 真空蒸发镀膜.pdf 第二章 真空蒸发镀膜法要点： 真空蒸发原理蒸发源的蒸发特性蒸发源的类型合金及化合物的蒸发膜厚和淀积速率的测定 §2-1 Principle of Vacuum Evaperation 一：真空蒸发的特点（1 ）特点：成膜速度快0.1 －50um/min，设备比较简单，操作容易；制得薄膜纯度高；薄膜生长机理较简单。（2 ）缺点：薄膜附着力较小，结晶不够完善，

2015-07-23 约1.35万字 72页立即下载

一种真空蒸发浓缩装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210205912 U (45)授权公告日 2020.03.31 (21)申请号 20192

2023-08-23 约5.99千字 6页立即下载

双效真空蒸发器的设计选择课件.doc 食品工程原理课程设计说明书设计题目：姓名：班级：学号：指导教师：日期：任务书设计任务及操作条件　　含固形物16%（质量分率，下同）的鲜牛乳，拟经双效真空蒸发装置进行浓缩，要求成品浓度为49%，原料液温度为第一效沸

2017-05-24 约9.43千字 17页立即下载

第二章 真空蒸发镀膜法.pdf 第二章 真空蒸发镀膜技术第二章 真空蒸发镀膜技术河北工业大学材料学院 真空蒸发镀膜是在真空室中，加热蒸发器中待形成薄膜的源，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到衬底或基片表面，凝固形成固态薄膜的方法。几十年的历史。本章主要内容 ☀真空蒸发原理 ☀蒸发源的蒸发特性及薄厚分布 ☀蒸发源的类型 ☀合金及化合物的蒸发 ☀膜厚和淀积速率的测量与监控 真空蒸发原理 真空蒸发原理 真空蒸发的特点与蒸发过程 真空蒸发的特点与

2015-08-03 约2.91万字 97页立即下载

真空蒸发镀膜蒸镀蒸镀.PPT §8.2 物理汽相沉积（PVD）物理气相沉积 —— Physical Vapor Deposition 缩写为： PVD；通常用于沉积薄膜和涂层沉积膜层厚度：10-1nm～mm；一类应用极为广泛的成膜技术，从装饰涂层到各种功能薄膜，涉及化工、核工程、微电子以及它们的相关工业工程。包括蒸发沉积（蒸镀）、溅射沉积（溅射）和离子镀等。一、真空蒸发镀膜（蒸镀）蒸镀——利用真空泵将淀积室抽成“真空”，然后用高熔点材料制成的蒸发源将淀积材料加热、蒸发、淀积于基片上。 1. 物理基础（1）物理阶段： ① (淀积材料的)升华：S→

2018-11-20 约7.99千字 41页立即下载