一种基于磁控溅射的高熵陶瓷复合涂层制备方法及高熵陶瓷复合涂层.pdf

一种采用磁控溅射法制备金属支撑单体的方法.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113355643 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 202110915770.9 (22)申请日 2021.08.10 (71)申请人北京

2023-06-18 约2.08万字 15页立即下载

磁控溅射制备不锈钢双极板碳基复合涂层的性能研究与失效分析.docx 磁控溅射制备不锈钢双极板碳基复合涂层的性能研究与失效分析一、引言随着能源与环境问题的日益突出，新型的能源材料和技术的研发变得尤为重要。其中，不锈钢双极板碳基复合涂层因其良好的耐腐蚀性、高导电性和优异的机械性能，在燃料电池等领域具有广泛的应用前景。磁控溅射作为一种重要的制备技术，在制备此类涂层中发挥着重要作用。本文将详细研究磁控溅射制备不锈钢双极板碳基复合涂层的性能，并对其失效模式进行分析。二、磁控溅射制备技术 磁控溅射是一种物理气相沉积技术，其原理是在电场和磁场的作用下，将靶材表面的原子或分子溅射出来并沉积在基体表面，形成所需涂层。在制备不锈钢双极板碳基复合涂层时，磁控溅射技术可以有效地

2025-05-29 约3.94千字 8页立即下载

磁控溅射法制备Al-Al₂O₃复合涂层及其阻氘性能的多维度探究.docx 磁控溅射法制备Al-Al?O?复合涂层及其阻氘性能的多维度探究一、引言 1.1研究背景与意义 1.1.1能源领域中氘的应用与渗透问题随着全球能源需求的持续增长以及对传统化石能源枯竭和环境污染问题的担忧，寻找清洁、可持续的能源替代方案已成为当务之急。核聚变能源作为一种极具潜力的未来能源，因其具有能量密度高、燃料来源丰富（如氘可从海水中提取，储量几乎无限）、几乎不产生温室气体和长寿命放射性废物等优点，备受全球科研人员的关注，有望成为解决能源危机的终极方案之一。在核聚变反应中，氘-氚反应是目前研究最为广泛和深入的核聚变反应类型，其反应方程式为D+T\rightarrow^{4}

2025-05-22 约6.03万字 44页立即下载

磁控溅射制备GLC-Sn-Zn复合涂层及载流摩擦磨损性能研究.docx 磁控溅射制备GLC-Sn-Zn复合涂层及载流摩擦磨损性能研究 磁控溅射制备GLC-Sn-Zn复合涂层及载流摩擦磨损性能研究一、引言随着现代工业的快速发展，对于材料表面性能的要求越来越高。其中，摩擦磨损性能是材料表面性能的重要指标之一。在许多应用领域中，如电力、交通、航空航天等，需要使用具有优异载流摩擦磨损性能的材料。磁控溅射技术作为一种重要的制备涂层的技术手段，被广泛应用于制备具有优异性能的复合涂层。本文将介绍磁控溅射制备GLC/Sn-Zn复合涂层的过程，并对其载流摩擦磨损性能进行研究。二、磁控溅射制备GLC/Sn-Zn复合涂层 2.1实验材料与设备实验所使用的材料包括基材、GLC靶材、

2025-06-09 约4.31千字 8页立即下载

一种磁控溅射镀膜方法及装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113005414 A (43)申请公布日 2021.06.22 (21)申请号 202110201011.6 (22)申请日 2021.02.23 (71)申请人湖南匡楚科技有限公司

2023-06-08 约7千字 9页立即下载

磁控溅射法制备涂层导体缓冲层薄膜的开题报告.docx 磁控溅射法制备涂层导体缓冲层薄膜的开题报告本文主要介绍磁控溅射法制备涂层导体缓冲层薄膜的研究背景、目的和研究计划。一、研究背景随着信息技术的不断发展，新一代电子器件对导体材料的要求也在不断提高。而一些常见的导体材料如铜、铝等在高频条件下存在一定的损耗，且随着工作频率的不断提高，其损耗会越来越大，影响器件的性能和稳定性。为了解决这一问题，涂层导体材料开始被广泛应用，而涂层导体缓冲层薄膜也成为了研究热点。目前已有多种涂层导体缓冲层材料用于制备，如氮化铜、氧化锌、氮化硅等。而磁控溅射技术是制备这些材料薄膜的一种有效方法，具有工艺参数易控制、薄膜性能优良等优点。因此本文拟探讨磁控溅射法制备涂

2023-12-02 约小于1千字 2页立即下载

基于磁控溅射构建金属-陶瓷木基复合材料及功能性研究.docx 基于磁控溅射构建金属-陶瓷木基复合材料及功能性研究 基于磁控溅射构建金属-陶瓷木基复合材料及功能性研究一、引言随着科技的不断进步，复合材料在各个领域的应用越来越广泛。金属/陶瓷木基复合材料作为一种新型的复合材料，具有优异的物理、化学和机械性能，被广泛应用于航空航天、生物医疗、电子工程等领域。本文旨在通过磁控溅射技术构建金属/陶瓷木基复合材料，并对其功能性进行深入研究。二、磁控溅射技术及其在复合材料制备中的应用 磁控溅射技术是一种利用磁场控制等离子体中离子运动轨迹的物理气相沉积技术。该技术具有制备工艺简单、膜层厚度均匀、附着力强等优点，在制备金属/陶瓷木基复合材料方面具有广泛的应用前景。在

2025-06-04 约3.5千字 7页立即下载

利用磁控溅射法制备电磁屏蔽陶瓷板技术.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112921268 A (43)申请公布日 2021.06.08 (21)申请号 202110089120.3 (22)申请日 2021.01.22 (71)申请人山东

2023-06-06 约8.44千字 6页立即下载

磁控溅射法制备碳_镍复合薄膜及其在电磁屏蔽中的应用.pdf 目录摘要I AbstractIII 第一章绪论1 1.1引言1 1.2电磁屏蔽概述1 1.2.1电磁屏蔽原理1 1.2.2电磁屏蔽材料分类5 1.3国内外研究现状7 1.4研究内容11 第二章材料和方法12 2.1磁控溅射设备和材料12

2025-02-17 约10.71万字 62页立即下载

基于磁控溅射与超声滚压复合强化轴承套圈表面的方法.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113403596 A (43)申请公布日 2021.09.17 (21)申请号 202110625094.1 (22)申请日 2021.06.04 (71)申请人河南

2023-06-18 约1.06万字 10页立即下载

一种利用磁控溅射在硅衬底上制备金属锆薄膜的方法及应用.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112831766 B (45)授权公告日 2022.04.01 (21)申请号 202110002896.7 C23C 14/16 (2006.01)

2023-06-04 约1.32万字 12页立即下载

一种磁控溅射用BNT靶材及利用热压法制备BNT靶材的方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号CN117735980A (43)申请公布日2024.03.22 (21)申请号202311750994.4 (22)申请日2023.12.19 (71

2024-03-21 约1.66万字 13页立即下载

一种以磁控溅射Cu薄膜为缓冲层的二维hBN薄膜及其制备方法.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112962082 A (43)申请公布日 2021.06.15 (21)申请号 202110273353.9 C23C 14/58 (2006.01)

2023-06-10 约8.37千字 9页立即下载

一种基于磁控溅射纳米膜材料的抗菌口罩.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213370084 U (45)授权公告日 2021.06.08 (21)申请号 202022214005.8 A41D 31/10 (2019.01)

2023-03-08 约7.88千字 7页立即下载

一种结合磁控溅射的离子注入方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114540777 A (43)申请公布日 2022.05.27 (21)申请号 202210033049.1 (22)申请日 2022.01.12 (71)申请人温州瑞明工业股份有限公司地址 3

2023-05-10 约9.29千字 11页立即下载