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一种真空下薄膜沉积装置进气机构.pdf

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(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220520622U

(45)授权公告日2024.02.23

(21)申请号202321858385.6

(22)申请日2023.07.14

(73)专利权人艾华（无锡）半导体科技有限公司

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