Z型光亮剂酸性镀铜工艺及机理研究①.pdf

第 29卷第 2期 矿 冶 工 程 V0I．29№2 2009年o4月 MINING AND METALLURGICAL ENGINEERING April2009 Z型光亮剂酸性镀铜工艺及机理研究① 吕重安 ，郑雅杰 (1．中南大学 冶金科学与工程学院，湖南 长沙410083；2．大冶有色金属公司，湖北黄石 435005) 摘 要：研究了z型光亮剂作用下酸性光亮镀铜工艺及其电化学作用机理。z型光亮剂酸性光亮镀铜体系适宜工艺条件为：HSO 用量为 160—220g／L、CuSO4。5H2O用量为80—100g／L、PEG一6000用量为0．4O0～0．500g／L、C1一浓度为 (40—8O)×10一、Z型光 亮剂用量为8～12ml／L、温度 10-40oC、电流密度 1—3．5A／dm。采用 z型光亮剂酸性镀铜，镀层结晶细致、光滑、平整，40℃时 电流效率为98．7％，其电化学极化区间为一70．18～一201．4mV，交换电流密度 (i。)为6．34×10I4A／cm。电化学极化实验证明z 型光亮剂具有增大极化作用，有利于形成细晶和起到光亮作用。 关键词：电镀；光亮剂；酸性镀铜；工艺；机理 中图分类号：TG174 文献标识码：A 文章编号：0253—6099(2009)02—0070—05 StudyonTechniqueandElectrochemicalM echanism ofAcidicCopperElectroplatingofZ-typeBrightener Lt)Zhong．an一．ZHENGYa-jie (1．SchoolofMetallurgicalScienceandEngineering，CentralSouthUniversity，Changsha410083，Hunan，China； 2．DayeNonferrousMetalCo，Huangshi435005，Hubei，China) Abstract：Techniqueand electrochemicalmechanism ofacidiccopperelectroplatingofZ—typebrightenerwerestudied． Theoptimal conditionsforacidiccopperelectroplatingofthebrightenerareasthefollowing：H2SO4160～220g／L，CuSO4 · 5H2O80～100g／L，Z—typebrightener8一l2mL／L，PEG一6OO00．4O0～0．500g／L，C1一(40～80)×10一。，tempera— tureofplatingbath10-40 ℃ ．currentdensity1～3．5A／dm ．Thecopperfilm obtainedbyacidiccopperelectroplatingof Z-typebrightenerisevenandsmoothduetofinecrystallization．Thecurrentefficiencyofcopperplatingis98．7％ at40 oC．Theelectrochemicalpolarizationspanandtheexchnagecurrentdensity(io)ofZ—typebrightenerplatingsolutionare 一 70．18一 一201．4mV and6．34 ×10一 A／cm respectively．Th eelectrochemicalpolarizationtesttestifiesthatZ-type brightenerhasthefunctionsofincreasingelectrochemicalpolarization，facilitatingfinecrystalsformationnadbrightening． Keywords：electroplating；brightener；acidiccopperelectroplating；technique；mechanism