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铝基纳米点阵模板-磁控溅射法制备纳米棒薄膜及其性能研究的开题报告
题目：铝基纳米点阵模板-磁控溅射法制备纳米棒薄膜及其性能研究
研究背景与意义：
在纳米科学技术的研究舞台上，纳米材料的制备和表征一直是热点话题。纳米棒薄膜是一种具有应用前景的纳米材料，由于其高比表面积、晶面不对称性以及多级结构等特点，使得其在能源、传感、生物医学、光学等领域具有广泛的应用前景。因此，制备高品质的纳米棒薄膜及其性能研究具有极高的理论和应用价值。
研究内容：
本研究拟采取铝基纳米点阵模板-磁控溅射法制备纳米棒薄膜，并对其结构、形貌、组成、光学性能等进行表征和研究。具体研究内容包括：
1. 铝基纳米点阵模板的制备方法研究；
2. 磁控溅射法制备纳米棒薄膜的工艺参数研究；
3. 扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）等表征手段对纳米棒薄膜结构、形貌、组成等进行分析；
4. 纳米棒薄膜的光学性能研究，包括吸收谱和荧光光谱分析，并研究其与形貌、组成等之间的关系。
研究方法和步骤：
1. 铝基纳米点阵模板的制备方法研究：
优化铝基纳米点阵模板的制备方法，包括选择合适的阳极氧化液体、控制制备过程中的电流密度等参数。通过SEM、TEM等表征手段对所得的铝基纳米点阵模板进行表征。
2. 磁控溅射法制备纳米棒薄膜的工艺参数研究：
优化磁控溅射法制备纳米棒薄膜的工艺参数，包括控制制备过程中的溅射功率、工作气压等参数。通过SEM、TEM、XRD、AFM等表征手段对所得纳米棒薄膜进行表征。
3. 纳米棒薄膜的光学性能研究：
通过紫外-可见吸收光谱和荧光光谱分析纳米棒薄膜的光学性能，并研究其与形貌、组成等之间的关系。
预期成果：
1. 成功制备高品质的铝基纳米点阵模板和纳米棒薄膜；
2. 对铝基纳米点阵模板-磁控溅射法制备纳米棒薄膜的工艺参数和制备过程进行了系统的理论分析和实验研究；
3. 对纳米棒薄膜的结构、形貌、组成、光学性能等进行了详细的表征和研究；
4. 揭示了纳米棒薄膜的形成机制，并探讨了其应用领域。
研究周期：
本研究拟在两年内完成。
参考文献：
[1] M. Kim, S. J. Lee, Y. J. Lee, et al. Fabrication of silver nanorod arrays and their optical properties[J]. Nanotechnology, 2007, 18（20）: 205305.
[2] Z. H. Zhang, N. P. Huang, Y. F. Lu, et al. A simple route for the synthesis of silver nanorod arrays on indium tin oxide film[J]. Materials Letters, 2007, 61（11/12）: 2313-2316.
[3] 杨立东. 磁控溅射技术及其应用[M]. 北京: 机械工业出版社, 2010.
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