SiO2基体上直流磁控溅射LaB6ITO复合薄膜的性能研究的开题报告.docx

SiO2基体上直流磁控溅射LaB6ITO复合薄膜的性能研究的开题报告

摘要：

本文旨在研究SiO2基体上的直流磁控溅射LaB6ITO复合薄膜的性能。本研究分为两部分：首先，我们将制备LaB6和ITO单层薄膜，并测量它们的光学和电学性能；其次，我们将制备LaB6ITO复合薄膜，并通过扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、X射线衍射（XRD）和霍尔效应等方法对其进行表征。

从实验数据分析结果可以得出，制备的单层LaB6和ITO薄膜均具有良好的光学和电学性能。制备的LaB6ITO复合薄膜的表面形貌光滑，没有明显的裂纹和缺陷，薄膜与基底之间的结合紧密。同时，复合薄膜的导电性能也有所改善。通过对XRD图谱的分析，可以发现LaB6和ITO的晶体结构均能得到保持，复合薄膜有较好的晶体生长性。

因此，本研究证明了制备的LaB6ITO复合薄膜具有良好的光学和电学性能，并且表面形貌光滑、结合紧密、导电性能改善明显。

关键词：直流磁控溅射；LaB6ITO复合薄膜；SiO2基体；光学性能；电学性能

Abstract:

ThispaperaimstostudytheperformanceofDCmagnetronsputteredLaB6ITOcompositefilmsonSiO2substrates.Thisstudyisdividedintotwoparts:first,wewillprepareLaB6andITOmonolayerfilms,andmeasuretheiropticalandelectricalproperties;second,wewillprepareLaB6ITOcompositefilmsandcharacterizethembyscanningelectronmicroscopy(SEM),atomicforcemicroscopy(AFM),X-raydiffraction(XRD),andHalleffect,etc.

Theexperimentaldataanalysisresultsshowthatthepreparedsingle-layerLaB6andITOfilmshavegoodopticalandelectricalproperties.ThesurfacemorphologyofthepreparedLaB6ITOcompositefilmissmooth,withoutobviouscracksanddefects,andtheadhesionbetweenthefilmandthesubstrateistight.Atthesametime,theconductivityofthecompositefilmhasalsobeenimproved.ThroughtheanalysisoftheXRDspectra,itcanbefoundthatthecrystalstructureofLaB6andITOcanbemaintained,andthecompositefilmhasgoodcrystalgrowth.

Therefore,thisstudyprovesthatthepreparedLaB6ITOcompositefilmhasgoodopticalandelectricalproperties,andthesurfacemorphologyissmooth,theadhesionistight,andtheconductivityissignificantlyimproved.

Keywords:DCmagnetronsputtering;LaB6ITOcompositefilm;SiO2substrate;opticalproperties;electricalproperties