脉冲激光沉积制备Fe-N薄膜的中期报告.docx

脉冲激光沉积制备Fe-N薄膜的中期报告 本文旨在介绍脉冲激光沉积（PLD）制备铁氮（Fe-N）薄膜的中期研究进展。铁氮薄膜是一种具有良好磁性和导电性能的功能材料，在磁学存储、传感器和磁性材料等领域有着广泛的应用前景。 在研究中，我们采用了常规的PLD方法，通过在真空环境中将具有铁和氮化物的靶材进行激光照射，使材料蒸气沉积在基底上形成薄膜。我们改变了激光能量、沉积温度和氮气压力等参数，研究它们对Fe-N薄膜结构和性能的影响。 我们使用X射线衍射（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）等表征技术对制备的Fe-N薄膜进行了表征。初步结果表明，随着激光能量和氮气压力的增加，Fe-N薄膜的晶体结构会发生变化，并且出现了不同的晶面取向。另外，我们还发现，Fe-N薄膜的磁性能随着沉积温度的变化而发生了变化，其中在一定范围内提高沉积温度可以显著提高薄膜的饱和磁化强度。 总的来说，我们的中期研究表明，PLD是一种有效的方法来制备Fe-N薄膜，并且不同制备参数对薄膜的晶体结构和磁性能有显著影响，为后续深入研究和应用提供了基础。