一种基于SHAP值的酿酒工艺参数优化方法.pdf
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(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117252467A
(43)申请公布日2023.12.19
(21)申请号202311216251.9G06F18/213(2023.01)
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基于多参数驱动的磁流变抛光工艺优化方法研究.docx
基于多参数驱动的磁流变抛光工艺优化方法研究
一、引言
磁流变抛光技术是一种利用磁流变材料在磁场作用下进行表面抛光的方法。该技术因其高效率、高精度和良好的表面质量，在精密制造领域得到了广泛的应用。然而，磁流变抛光过程中涉及到众多工艺参数，如磁场强度、抛光压力、抛光时间等，这些参数的调整和优化直接影响到抛光质量和效率。因此，基于多参数驱动的磁流变抛光工艺优化方法研究具有重要的理论意义和实践价值。
二、磁流变抛光技术概述
磁流变抛光技术是利用磁流变材料在磁场作用下产生的剪切力对工件表面进行抛光的一种方法。其基本原理是利用磁场控制磁流变材料的流动状态，从而实现对工件表面的精确抛光。磁流变抛光技术具有高
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