不同电解质溶液对聚吡咯修饰膜性质的影响.pdf

维普资讯 物理化学学报(WuliHuaxueXuebao) 612 ActaPhys．一Chim．Sin．，2008，24(4)：612—618 April [Article】 www．whxb．pku．edu．cn 不同电解质溶液对聚吡咯修饰膜性质的影响 田 颖 李浙齐 徐洪峰 吴艳波 杨凤林 (大连交通大学环境与化学工程学院，辽宁大连 116028； 大连理工大学环境科学与工程系，辽宁大连 116024) 摘要： 以对甲基苯磺酸钠 一TSNa)为掺杂剂在不锈钢电极表面恒电位合成聚吡咯(PPy)修饰膜，采用循环伏安 法在一1．6—0．8V大范围扫描研究了修饰膜在H2SO；、NaSO、NaOH电解质溶液中的氧化还原行为．结果表明， 在HSO溶液中，以H的脱出(氧化)，嵌入(还原)为特征，并发现聚吡咯在酸性溶液中所特有的质子还原峰．在 Na2SO和NaOH溶液中，以Na的脱出(氧化)嵌／入(还原)峰为特征．FT—IR吸收光谱显示，经NaOH处理后，聚吡 咯膜的长共轭结构被完全破坏，而经HSO和NaSO4处后，膜的共轭结构未发生变化． 关键词： 聚吡咯；氧化还原行为； 电解质溶液；Fr．IR 中图分类号： 0646 EffectsofDifferentElectrolyteSolutionsonCharacteristicsof Polypyrrole-M odifiedFilms TIANYing， LIZhe—Qi XUHong—Feng WUYan—Bo YANGFeng—Lin (CollegeofEnvironmentalandChemicalEngineering，DalianJiaotongUniversity,Dalian 116028，LiaoningProvince, P．R．China；2DepartmentofEnvironmentalScienceandTechnology，DalianUniversiytofTechnology，Dalian j16024， LiaoningProvince，P．R．China) Absract： Polypyrrole(Pry)filmsweresynthesizedbypotentiolstaticmethodfromapara-toluenesulfonicsodium — TSNa)solutiononstainlessstee1．CyclicvoltammetryofPry．modifiedelectrodesinhtewidepotentialrangefrom - 1．6 to 0．8V wasconducted in H 04，Na2SO4，na d NaOH solutions，respectively．The results showed htat cyclicvoltammogram inH2SO4solutionwasfeaturedbyH insertionduringreductionprocessandH expulsionduring oxidationprocess．A uniquepeakassociatedtOH reductionwasfirstdiscovered．In Na2SO4nadNaOH solutions， cyclicvoltammogramsarefeaturedbyNa~insertionduringreductionprocessna dNa~expulsionduringoxidationprocess． ThedataofFT—IR absorptionspectrademonstratedthat