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电子EDI+RO 超纯水设备工艺流程分析资料 下载 电子工业EDI+RO 超纯水设备概述 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、 光电器件、各类电子器件、微电子工业、年夜范围、超年夜范围 集成电路需用年夜批的高纯水(含盐量在0.3mg/L 以下,电导率 小于0.2μs/cm的水)、超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机 物等简直全部往除的水)清洗半制品、制品。集成电路的集成度 越高，对水质的请求也越高。今朝我国电子工业部把电子级水质 技巧分为五个行业尺度，分辨为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、 2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分分歧水质。 电子工业EDI+RO 超纯水设备制取 电子工业超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直 全部往除的水)处理(经由过程物化方法往除水中一些物质的过 程)设备采用两级反渗透主机加EDI 纯水系统(电阻率请求在 1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水)(电往离子(又称填充床电渗析 EDI 纯水系统(电阻率请求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯 水)/CDI 纯水设备(实用于制备电阻率请求很高的纯水系 统))(Electrodeionization)的简称) 制备电子工业用超纯水的工艺流程 电子行业制备超水的工艺年夜致分红以下几种： 1、采用离子交换树脂的传统水处理方法，其基础工艺流程 为：原水→沙炭过滤器→慎密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混 床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置慎密过滤器→用水滴。 2、采用反渗透水处理设备与离子交换停止组合的方法，其 基础工艺流程为：原水→沙炭过滤器→慎密过滤器→原水箱→反 渗透→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置慎密过滤器→用水 滴。 3、采用反渗透水处理设备停止搭配的的方法，这是一种制 取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，生长潜力宏年夜的 超纯水制备工艺，其基础工艺流程为：原水→沙炭过滤器→慎密 过滤器→原水箱→反渗透→电往离子→纯水箱→纯水泵→后置 慎密过滤器→用水点。 今朝制备电子工业用超纯水(水中导电介质、胶体物质、无 机物等简直全部往除的水)的工艺基础上是以上三种，其他的工 艺流程年夜都是在以上三种基础工艺流程的基础长停止分歧组 合搭配衍生而来。现将他们的优毛病分辨列于下面： 1、第一种采用离子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制成 的无机单体颗粒的离子交换剂)(普通也称离子交换树脂(用化学 法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂))(用化学 法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂)(又称离 子交换剂)其长处在于初投资少，占用的处所少，但毛病就是需 要常常停止离子再生，耗费年夜批酸碱，而且对情况有必定的损 坏。 2、第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换(利用交换 剂中的离子与稀溶液中的离子停止交换,以提纯或往除离子的过 程)(经由过程离子交换的方法制取纯水、高纯水的装置)，其特 点为初投次比采用离子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制成 的无机单体颗粒的离子交换剂)(普通也称离子交换树脂(用化学 法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂))(用化学 法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂)(又称离 子交换剂)方法要高，但离子设备再生周期相对要长，耗费的酸 碱比纯真采用离子树脂(普通也称离子交换树脂(用化学法将高 分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂))的方法要少良 多。但对情况仍是有必定的损坏性。 3、第三种采用反渗透作预处理再配上电往离子(又称填充床 电渗析EDI 纯水系统(电阻率请求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯 水)/CDI 纯水设备(实用于制备电阻率请求很高的纯水系 统))(EDI 纯水系统(电阻率请求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯 水)(电往离子(又称填充床电渗析EDI 纯水系统(电阻率请求在 1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水)/CDI 纯水设备(实用于制备电阻 率请求很高的纯水系统))(Electrodeionization)的简称))装置， 这是今朝制取超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直 全部往除的水)最经济，最环保用来制取超纯水(水中导电介质、 胶体物质、无机物等简直全部往除的水)的工艺，不需要用酸碱 停止再生便可持续制取超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机 物等简直全部往