真空镀膜之基础与应用.pdf

輔仁大學物理系/所 啟動產業人力扎根計畫-真空鍍膜技術學程 ｢薄膜應用專題｣系列演講 真空鍍膜之基礎與應用 歐特威科技股份有限公司 湛本岱 總綱 1. 構成真空鍍膜的基本要素 2. 真空鍍膜技術與設備的種類 3. 真空鍍膜技術與應用 -濺鍍 4. 結論 1.構成真空鍍膜的基本要素 真空腔體 基材 真空幫浦 鍍材 自動控制 膜層設計 真空鍍膜 感測元件 鍍膜技術 設備 製程 品質檢測 檢測 環境檢測 1.1設備 • 真空腔體 • 真空幫浦 •自動控制 •感測元件 1.2 製程 • 基材 – 玻璃、塑膠、晶圓、金屬等 • 鍍材 – 金屬、介電質、半導體等 • 膜層設計 – 考慮適用的鍍膜材料、膜的 功能 • 鍍膜技術 – 考慮尺寸、基材、鍍材、功 能與適用的鍍膜方式 1.3檢測 •品質檢測 – 光學特性 – 機械特性 –電磁性 • 環境檢測 – 耐候性 –化學特性 2. 真空鍍膜技術與設備的種類 技術種類 設備種類 A. 物理氣相鍍膜(PVD) ‧批次(batch)型態 ‧ 熱蒸著 ‧連續(inline)型態 ‧ 濺鍍 ‧集合(cluster)型態 ‧ 多弧離子鍍膜 ‧捲膜(web)型態 B. 化學氣相鍍膜(CVD) ‧ PECVD電漿輔助CVD ‧ ECR/ICP高密度電漿CVD 2.1.1 熱蒸著：鎢舟(鎢絲)型 工作壓力: 待鍍物 待鍍物 -4 -6 10 ~10 torr 氣體噴嘴 氣體噴嘴 鍍材 鎢舟 鎢絲 P P