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二氟化氙气体刻蚀系统
1.仪器功能：
二氟化氙各向同性刻蚀技术可用于硅材料的刻蚀和结构的释放，并且对二氧化
硅、氮化硅、氮化铝及光刻胶等材料具有较高的选择比。
二氟化氙可以刻蚀的材料有：单晶硅，多晶硅，无定型硅，Ge，SiGe，Mo
二氟化氙不能刻蚀的材料：二氧化硅（可达到高选择比），氮化硅（可达到高选
择比），碳化硅（可达到高选择比），金，铜等。更详细的信息请见附录。
2.样品尺寸要求
最大样品尺寸：8寸，向下兼容小尺寸样品。
3.设备培训和参考资料
3.1本设备需经过使用资格考
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