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低温光波制备ITO透明导电薄膜：工艺、性能与机制探索.docx

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低温光波制备ITO透明导电薄膜：工艺、性能与机制探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代光电器件的发展进程中，透明导电薄膜扮演着不可或缺的角色，而氧化铟锡（ITO）薄膜凭借其卓越的综合性能，成为该领域的核心材料之一。ITO薄膜主要由氧化铟（In?O?）和少量氧化锡（SnO?）组成，通常氧化铟与氧化锡的质量比为90:10。这种独特的成分赋予了ITO薄膜一系列优异特性，使其在众多光电器件中占据关键地位。

在平板显示领域，无论是液晶显示器（LCD）、有机发光二极管显示器（OLED），还是新兴的量子点显示器（QLED），ITO薄膜都被用作透明电极。以LCD为例，ITO薄膜作为电

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