新解读《CY_T 30 - 1999印刷技术 胶印印版制作》最新解读.docx
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《CY/T30-1999印刷技术胶印印版制作》最新解读
目录
一、胶印印版制作基础原理深度剖析:从油水相斥到图文精准转移,未来几年技术革新走向何方?
二、PS版材特性揭秘:金属PS版如何在未来印刷环境中保持核心地位,专家解读其性能演变趋势
三、接触曝光设备大起底:真空晒版机、连晒机在未来几年面临哪些挑战与机遇,深度分析来了
四、曝光环节的关键把控:怎样依据未来行业需求,精准调控曝光参数,专家给出这些策略
五、显影过程全解析:显影液与设备如何协同升级,以契合未来几年印刷工艺的严苛要求?
六、印版后处理的门道:烤版、后曝光及涂胶,在未来印刷生产中发挥
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