《高密度小间距植球技术规范》.pdf
ICS31.260
CCSL50
ZOIA
中关村光电产业协会团体标准
T/XXXXXXX—XXXX
高密度小间距植球技术规范
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(征求意见稿)
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XXXX-XX-XX发布XXXX-XX-XX实施
中关村光电产业协会 发布
T/XXXXXXX—XXXX
高密度小间距植球技术规范
1范围
本标准提供了MEMS传感器球栅阵列(BGA)封装技术的设计指导,给出了MEMS传感器高密度、
小间距植球封装的设计规范,对植球技术的锡球阵列排布设计规则和设计建议作了详细说明,为MEMS
传感器高密度、小间距的植球技术需求提供了技术指引方向和设计规范。
本标准适用于MEMS传感器BGA封装中的锡球阵列排布设计,以及适用于MEMS传感器及其他小型
化芯片的高密度小间距植球技术需求。
2规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文件,
仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本
文件。
3术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
3.1.1MEMS
微机电系统(Micro-Electro-MechanicalSystems)的简称,是一种将微电子和微机械技术相结合的电子
器件。
3.1.2球栅阵列封装
球栅阵列(BallGridArray,简称BGA)封装技术为应用在集成电路上的一种表面黏着技术,此技
术常用来永久固定如MEMS传感器之类的的装置。BGA封装技术一般通过植球工艺实现,植入的锡球
是封装芯片与印刷电路板之间的导电连接接口。
4高密度小间距植球技术规范
下列条目适用于本文件。
4.1.1高密度小间距植球技术背景
BGA封装能提供比其他如双列直插封装(Dualin-linepackage)或四侧引脚扁平封装(QuadFlat
Package)所容纳更多的接脚,整个芯片的底部表面可全作为接脚使用,而不是只有周围可使用,还能
具有更短的平均导线长度,以具备更佳的高速效能。基于BGA封装技术的扇入式(Fan-in)封装工艺,
能够充分利用芯片底部面积进行锡球阵列排布,并且封装体尺寸与原芯片尺寸相当,在轻薄短小的
MEMS传感器芯片封装领域有很高的应用价值。合理设计MEMS传感器的锡球排布,确保芯片电连接性
能的同时减小芯片尺寸,提升芯片面积利用率,对降低MEMS传感器的封装成本具有重要意义。
4.1.2锡球阵列排布要求
为保证BGA封装的电气连接性能及其可靠性,锡球阵列排布应满足一定的尺寸和间距要求,植球
芯片设计应考虑相关因素,如下所示。
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4.1.2.1锡球高度BGA.01
BGA植球技术的锡球高度为锡球顶部距离锡球防焊层平面的高度差,锡球高度需满足后续表面贴
装工艺要求。通常情况下,植球的锡球高度≥60um;极限情况下,植球的锡球高度需≥20um。
4.1.2.2锡球球径BGA.02
BGA植球技术的锡球球径为植球后的锡球直径宽度,锡球的球径大小需确保芯片与印刷电路板的
电连通性能,随着芯片实际需求而变化。通常情况下,锡球的球径需≥100um。
4.1.2.3锡球球距BGA.03
BGA植球技术的锡球